中古 RUDOLPH NSX 115 #9353342 を販売中

RUDOLPH NSX 115は、最先端のマイクロエレクトロニクス製品の製造において優れた精度と精度を確保するために設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、マスクとウェーハ表面の画像をキャプチャする高速光学イメージングユニットで構成されています。また、独自の光学モジュールを搭載し、高度なマイクロパターンアライメント機能を備えた高精度ナノメートルステージを備えています。これにより、プロセス最適化のための迅速かつ正確な検査セットアップが可能になります。NSX 115には、信頼性の高いマスクライブラリと測定データを提供する高解像度のオプトマスクパレットも装備されています。高度なマスク編集機能により、スパッタリング、エッチング、リソグラフィック仕様など、さまざまなマスクタイプのパターンマッチングを自動化し、正確に行うことができます。光学イメージングツールの広い視野と高速スキャン機能により、最も複雑な構造でも迅速に視覚化できます。高精度の45度チルト調整により、アセットは精度を損なうことなく広範囲で動作します。これにより、デバイスの地形の広い範囲にわたって、対称および非対称の接触を含む大面積の機能を検査することができます。RUDOLPH NSX 115は、さらに包括的なウェーハ検査光学系を搭載しており、正確な解像度で画像領域と欠陥機能を実現しています。高精度な検査結果を得るために、高解像度の画像キャプチャ機能を搭載し、ウェハ検査を強化しています。さらに、自動化されたアライメントと検査プロセスにより、セットアップとその後の監視作業が簡素化されます。NSX 115は、さまざまなプロセス監視アプリケーションでの使用にも適しています。この装置は、焦点距離、フォトマスク特性、レンズの歪みなど、プロセスパラメータの微妙な変化を検出するように設計されています。このシステムの自動イメージキャプチャ機能により、長期的なプロセス最適化と歩留まり向上が可能になります。自動化されたオプションにより、プロセスに不可欠な結果が継続的に監視されます。RUDOLPH NSX 115は、マスクおよびウェハ検査機能に加えて、さまざまなモニタとデータシステム間の優れた接続性を提供します。高度なネットワークサポートにより、画像、レポート、データのリモート表示が可能です。これは、中央の場所から重要なプロセスパラメータを密接に監視しているリモートチームに特に役立ちます。結論として、NSX 115は、詳細かつ信頼性の高いマスクとウェーハ検査のための洗練されたイメージングツールです。洗練された光学モジュール、効率的なマスクライブラリ、高度な画像キャプチャ機能により、迅速な検査セットアップと信頼性の高い欠陥検出が可能です。また、高パフォーマンスのリモート接続により、プロセスの最適化と長期的な歩留まり改善の優れたサポートが保証されます。