中古 NANOMETRICS NanoSpec 4150 #9069402 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec 4150は、マスクやウェーハの検査・分析に優れた精度と速度を提供するために設計された高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。NanoSpec 4150は、特許取得済みのスキャンヘッド、広角スキャンレンズ、およびコントラスト解像度を空間的に向上させるガス放電管（GDT）で構成されるハイブリッドスキャンシステムを備えています。スキャンヘッドはレーザービームを正確に制御し、各視野を最大限の精度でスキャンできます。さらに、広角スキャンレンズとGDTは、他のスキャンシステムよりも画像のコントラストとディテールを向上させ、より正確な解析を実現します。ナノメトリクスNanoSpec 4150は、マスクとウェーハ基板の両方を迅速にスキャンし、リアルタイムで結果を得ることができる、柔軟性と適応性に優れた設計です。統合されたソフトウェアユニットは、迅速かつ簡単な操作を可能にし、多様なマスクおよびウェーハ分析ソフトウェアツールとアルゴリズムが含まれています。また、計測、故障解析、Eビームなどのシステムと統合することができ、半導体プロセスの包括的な特性評価が可能です。NanoSpec 4150は、自動転位、エアロゾル検出、欠陥識別、視力検査ライン、およびその他の高度な画像処理技術など、優れた検出および分析機能を備えています。これらの特徴は、色および灰色スケールイメージング、および面積カバレッジの定量測定、粒度、線形粗さ、粒子数、およびその他のパラメータなど、さまざまな機能によって補完されます。NANOMETRICS NanoSpec 4150は、高度なイメージングおよび解析機能に加えて、重要なウェーハ寸法および特性評価用の計測機能も提供します。計測ツールは、回路線幅、線間隔、およびその他の関連する機能など、さまざまなパラメータを正確に測定できます。全体として、NanoSpec 4150は強力で高速で高精度なマスクおよびウェーハ検査アセットです。高度なスキャン技術とイメージング技術、強力なソフトウェア、包括的な分析機能を組み合わせることで、半導体プロセスの特性評価と理解に不可欠なツールとなります。