中古 NANOMETRICS NanoSpec 4150 #293650216 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec 4150は、最先端のウェーハおよびマスク検査装置です。NanoSpec 4150は、高度なイメージングおよびスペクトル分析技術を使用して、オペレータの介入を最小限に抑えた信頼性の高い正確な検査を行います。このシステムは、1。0から21。0ミクロンの広い範囲で、最大25ミクロンの解像度の詳細な高解像度画像を生成することができます。ナノメトリクスNanoSpec 4150は、マスクパターン、フォトマスク、ガラス基板、およびウェーハの自動検査、効率的かつ正確な検査を行うように設計されています。ウェーハおよびマスク検査に必要なすべてのイメージングおよびスペクトル分析機能を提供します。NanoSpec 4150は、共焦点画像技術と高解像度分光装置を採用しており、チップやウェーハの変動パラメータや欠陥パラメータを信頼性の高い評価が可能です。1つまたは複数の画像を同時に取得できます。この機能により、寸法、コントラスト、欠陥検出などの測定が可能になります。ナノメトリクスNanoSpec 4150はまた、スペクトルの可視、近赤外線、および中赤外線の端でフルスペクトル分析を可能にする高度なハイパースペクトルイメージングマシンを採用しています。この高度なツールには、粒子の汚染によるものを含む幅広い欠陥を検出する機能が含まれています。NanoSpec 4150は、材料のチップパターン、ジオメトリ、複合材料を正確に分析するための効果的なツールです。また、欠陥特性評価、さまざまな自動測定、広範なスペクトル感度、テクスチュラルおよび色分析、フラクタル解析、エッジ検出、イメージステッチ、ヒストグラム分析など、幅広い機能を提供しています。ナノメトリクスNanoSpec 4150の高度な画像解析機能は、各領域の詳細な診断情報を使用して、レポートの自動生成を提供します。NanoSpec 4150は非常に汎用性が高く、マスク検査とウェーハ検査の両方に対応するさまざまなソリューションを提供します。これは、ISOやSEMIなどの幅広い業界標準および認証を満たすように設計されています。さらに、ユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、簡単で直感的な操作が保証され、プロセス全体と結果に高い信頼性を提供します。ナノメトリクスNanoSpec 4150は、幅広い産業および科学的用途に理想的な選択肢であり、幅広い検査プロセスに品質と精度を提供します。