中古 EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241296 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XEは、正確で正確なイオン注入を保証するために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。AXCELIS Paradigm XEは、さまざまな半導体プロセスに最適な柔軟性と効率を提供する高性能イオンインプラントおよびモニタです。最大80keVの加速電圧で、300mmウェーハサイズの生産制御に最適です。EATON NOVA Paradigm XEは、ウェーハ表面における粒子の均一な分布のためのユニークなマルチビーム機器を備えています。これは、最小8個の個々のインプランターガンビームを使用することによって達成されます。これらのビームにはそれぞれ独立した駆動機構があり、ユーザーはフルレンジ調整可能でビーム強度とスキャン速度の両方を正確に制御できます。さらに、ウルトラステッパービーム制御などの高度なプロセスコントロールを幅広く提供しています。Paradigm XEは、さまざまな安全性と環境機能を備えています。このユニットは、粒子放出の面で最も厳しい基準を満たすように設計されており、現在の業界標準に準拠しています。ユニットはまた、高度なろ過と限られたソース相互作用メカニズムを利用しています。EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XEの性能と成功の鍵は、統合されたエレクトロニクスパッケージです。このパッケージには、高度な再現可能な埋め込み制御ユニットと、さまざまな監視および光学システムが含まれています。統合された電子輸送機は、最も効率的な結果を保証するように設計されていますが、光学モニタリングツールはユーザーにリアルタイムのフィードバックを提供します。全体として、AXCELIS Paradigm XEは、最適なパフォーマンスを提供するように設計された高度なイオンインプラントおよびモニターです。最新の粒子ビーム技術を活用することで、一貫した正確な結果を保証し、幅広いプロセス制御オプションを提供します。統合されたエレクトロニクスパッケージは、信頼性と再現性の高い埋め込み性能を保証し、高度なろ過メカニズムは低粒子の放出レベルを保証します。要するに、EATON NOVA Paradigm XEは半導体アプリケーションに最適な高性能ソリューションです。