中古 EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241171 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XEは、幅広い半導体および関連アプリケーションのイオン注入およびアッシングプロセスをサポートする高度なイオンインプラントおよびモニタです。AXCELIS Paradigm XEは、革新的な技術を活用して、正確で一貫したイオン注入を保証するさまざまな機能を提供します。EATON NOVA Paradigm XEは、高度な汚染制御技術により効率的なimプランテーションシステムを提供します。高効率ろ過モジュールは、粒子保持技術を利用して、プロセスチャンバーから粒子と残留ガスの両方の汚染物を効率的に除去することにより、プラズマとプロセスガスの清潔さを確保します。洗練された円筒形のプラズマ源は、イオンビームの均一性を高め、不純物プロファイルを正確に制御できる高い線形電流を提供します。高度なParadigm XEは、ビームオーバーラップの精度を最大限に高めるための高度なコンピューター制御技術と、基材に不純物を正確に配置する機能も備えています。EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XEの柔軟なコンフィギュレーションコンポーネントは、さまざまな種類のウェーハ構成との互換性を保証します。さらに、オンボード診断ソフトウェアパッケージは、注入パラメータの迅速なセットアップを可能にし、デバイスの完全な制御を可能にします。高度なAXCELIS Paradigm XEは、基板抵抗と均一性の広範なプロットを含む材料加工監視スイートも提供しています。また、時間の経過とともに複数のイオン注入パラメータを追跡するための自動データ収集とグラフ生成も提供します。EATON NOVA Paradigm XEは、さまざまなイオン注入および関連プロセスに効率的な注入システムを提供します。その革新的な技術は、装置の精度と効率を最大限に高めながら、クリーンなプロセスチャンバーにビームの均一性と不純物プロファイルの正確な制御を提供します。さらに、柔軟な構成コンポーネントとモニタリングスイートにより、データの互換性とモニタリングが保証され、注入の精度が最大限に高まります。