中古 EATON NOVA / AXCELIS Optima HD #9235241 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS Optima HDは、マイクロエレクトロニクス製造で一般的に使用される高性能イオンインプラントおよびモニターです。精密なプロセス駆動パワー制御が可能で、優れたイオンビーム均一性を提供します。広域基板の埋め込みに使用できる複数のビーム源を提供し、フィルム特性を劣化させることなく、非常に均一なインプラントエネルギーと深度線量を提供します。AXCELIS Optima HDは、様々な用途に対応した汎用性の高いイオンインプラントです。これは、高度なデバイスのための正確で均一なドーピングプロファイルを提供するためにプログラム可能な制御と高速ビームを備えています。超厚膜の埋め込みから、高速用途向けの薄膜まで、あらゆる用途に使用でき、イオンの種類、エネルギー、用量の多様な要件に最適化できます。また、大面積の基板を移植するためのダイナミックスキャンシステムも備えており、より深く均一なプロファイルを提供します。このユニットは、インプラントの均一性と深度線量精度を向上させ、エネルギー損失を最小限に抑えて広範囲にわたって大量投与することができます。また、複数のイオンタイプの「マルチコンポーネント」インプラントに最大6つの異なるソースを使用することができ、高度なイオンインプラントの柔軟性と最適化を提供します。EATON NOVA Optima HDには、メンテナンスを簡素化し、稼働時間を増やし、生産性を向上させる数多くのユーザーフレンドリーな機能が搭載されています。これらには、一次ビーム電力、ビームライン環境条件、真空圧力を監視するための自動化された機械が含まれ、高温インシデントやバックフローへの迅速な対応を提供します。また、高度な冷却ツールとモーションコントロール技術を提供し、不均衡を最小限に抑えながらビームの均一性とプロセス出力を向上させます。Optima HDは、埋め込み半導体デバイスに最適化された資産であり、高解像度のイメージングおよびプロセス制御とともに、信頼性の高い正確な線量および深度分布を提供します。MEMS、 NEMS、医療アプリケーションなどの先端技術に適したソリューションであり、信頼性と性能を考慮して設計されています。このモデルは、歩留まりを向上させ、プロセスのスループットを向上させたい人にとって理想的な選択肢です。