中古 EATON NOVA / AXCELIS NV GSDIII-90 #9059238 を販売中
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ID: 9059238
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1997
High current implanter, 6"
EBARA A07V Pump
EBARA A30W Pump
1997 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII-90は、高精度の注入と均質なウェーハカバレッジのために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。半導体業界の様々な用途に広く使用されています。このデバイスは、運動中のイオン投与量の最適な精度と均一性を提供する90 keV最小アクセプター供給を持っています。100uA〜1mAのイオンビーム電流範囲により、高い着床性能が保証されます。これは、デバイスの特許取得済みのスクリーニング電子銃と自動ツイーター遮断モードによって可能になります。さらに、1次元、2次元、プログラマブルスキャンなど、複数のビームアライメントオプションが利用可能で、正確で正確なパターンインプラントが可能です。AXCELIS NV GSDIII 90は、注入パラメータのリアルタイム評価を提供するリアルタイムエンドオブショットモニターと機能を備えています。この機能は、ドップラーの拡大を制御し、ウェハの均一性の結果を改善するのにも役立ちます。また、Total Implant Mass (TIM)の計算機能も備えており、用量とプロファイルパラメータを最適化し、結果を簡単に検証できます。また、モータ回転バッチを含む自動アクセラレータ安全システムと、アークやスパッタリングを低減する慣性減衰システムを備えています。さらに、ガスやプロセスガスを柔軟にサポートするために、合計8つの独立したポートが利用可能です。さらに、EATON NOVA NV-GSDIII-90は幅広いドーパントをサポートし、最大16の異なるドーピングレベルに対応できます。また、安全な作業環境を確保するために、セルフクリーニング技術と限界検出器を備えています。EATON NOVA NV GSDIII-90は、信頼性の高い高精度イオンインプランター/モニターです。強力な90 keV最小アクセプター供給と幅広い処理オプションを備えているため、ユーザーは均質で高精度な結果を得ることができます。このデバイスの高度な監視および自動化されたシステムは、安全で効率的な動作を保証します。
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