中古 EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-A-80 #9239611 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-80は、信頼性の高い精密インプラント技術と非常に柔軟で洗練されたモニターシステムを組み合わせた高度な高性能イオンインプラントおよびモニター装置です。このユニークなユニットは、他のシステムよりも高速なサイクル/秒と高精度を提供します。イオンインプランターは、材料を半導体基板に埋め込むプロセスの第一歩です。AXCELIS NV-GSD-A-80は、半導体ウェーハ基板上に存在する精密パターン特性に、高精度のイオン注入を提供するように設計されています。リン、ヒ素、ホウ素、アンチモン、ガリウム、ドーパントフリー基板など、さまざまなドーパントを埋め込むことができます。EATON NOVA NV-GSD-A-80には強力な磁石が搭載されており、ビームアークの角度と速度を一定のエネルギーレベルで高いレベルで制御できます。これにより、ウェーハ表面全体の最適なインプラント深度と均一性が保証されます。さらに、その高度な冷却機は、熱的に引き起こされる損傷を最小限に抑えるのに役立ちます。イオンインプランターは、効率的な操作手順を通じて、埋め込まれた材料の均一な分布を作成するように設計されています。また、高度な磁気レンズ技術により、ビーム方向の精度を高めています。ビーム制御は、総放射線欠陥制御（TRD）ソフトウェアによって管理されます。このソフトウェアは、インプランタツールが基板の組成、パターン、深さの変化に素早く適応できるように設計されています。Ion Implment Monitorは、信頼性、安全性、再現性の高いインプラントを確実に提供するために、インプラントのパラメータと基板をリアルタイムで監視できます。モニターは高度な検出器を使用して、ドーピングレベル、異方性、熱影響、厚さなど、幅広いパラメータを測定します。これは、インプラント結果の分析に役立ち、リソグラフィ精度を保証するのに役立ちます。NV-GSD-A-80は信頼でき、非常に有効なイオン注入器およびモニターのモデルです。精密インプラント技術、磁気レンズ、TRDソフトウェア、高度な監視機能など、さまざまな機能と技術を提供し、高精度で再現性の高い高性能インプラントを効率的に生産することができます。その結果、半導体製造アプリケーションに最適です。