中古 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E #9145264 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200Eは、半導体デバイス製造に使用されるイオンインプラントおよび高エネルギーモニタです。GSD 200Eは、集積回路やマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に使用されるイオン注入器と高エネルギーモニターの特定のタイプです。このデバイスは、パルス注入と高エネルギーモニタであり、監視されたパルス機能により、さまざまな種類のイオンを正確かつ信頼性の高い移植が可能です。GSD 200Eは、ウェーハ全体にわたって高い均一性を提供するように設計されており、注入プロファイルを正確かつ再現可能に制御できます。これにより、先進的な半導体デバイス製造に最適な製品となります。このデバイスには、精密電流制御、カラム選択、エネルギー制御、プロセスタイミング、パルス設定などの高度な制御セットが装備されています。これらの設定により、インプラント処理の柔軟性と正確な制御が可能になります。GSD 200Eは、イオン注入を最適化するための高性能イオンソースとカラムの組み合わせを備えています。この組み合わせにより、ターゲットのウェーハにイオンを埋め込む際に、高い精度と精度が得られます。この機能はまた、ウェーハ全体にわたって反復可能で均一なインプラント・プロファイルを保証します。GSD 200Eは、高速非接触信号処理と性能フィードバック回路を使用して、埋め込みプロセスを正確に制御します。この回路は、装置の応答時間を短縮し、インプラントのプロファイルの整合性を維持します。統合された高精度電流測定システムにより、正確な電流レギュレーションが可能です。GSD 200Eには、イオン注入プロセスの最終結果を最適化するためのリアルタイムイオンソートとインピーダンスマッチングモジュールが装備されています。この機能により、希望するタイプとエネルギーレベルのイオンだけがウェーハに埋め込まれます。GSD 200Eには、移植プロセスを正確に監視するためのビジョンユニットも含まれています。このマシンは、高解像度のCCDカメラ、光源、光学フィルタ、および精密イメージングソフトウェアで構成されています。このビジョンツールは、ウェーハ全体に均一なインプラント形状を確保する上で重要な役割を果たします。全体として、AXCELIS NV-GSD-200Eは強力で信頼性の高いイオンインプランターと高エネルギーモニタです。このデバイスは、高性能イオン源とカラムの組み合わせにより、最終結果を最適化するために、注入プロセスを正確かつ再現可能に制御するように特別に設計されています。ビジョンアセットやイオンソートモジュールなどの追加機能により、イオン注入プロセスが正確で効率的であることが保証されます。