中古 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #9024429 を販売中
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販売された
ID: 9024429
Implanter, 6"
Source head: enhanced source
High voltage bushing: standard
Extraction electrode: yes
Extraction: 80 kV
Source analyzer: triple indexed mass analysis magnet & power supply
RGA resolver: N/A
RGA chamber: N/A
HYT: N/A
MER: N/A
Charge control p/n: 1168890
Post accel elect: N/A
Flag Faraday: standard
In-air wafer handling:
Automatic notch aligner (dual sensor)
6" 4-cassette table
Dummy cassette 25-slot
Vacuum cassette
Load buffer #1
In-air robot
In-vac wafer handling:
In-vac arm
Holder
Unclamp
Elevator
Gryo drive: 2-axis variable implant angle, ± 12 degrees in both axes
Disk drive type: rotary drive
Disk standard disk
Cell controller: Cell 133
Dose controller: real-time patented dose control
SUN workstation:
SUN OS
SPARC 5 (Pri)
SPARC 5 (Sec)
SMIF: N/A
Disk chiller: HX-150
Compressor: Suzuki Shokan C300H
GeF4 (high pressure): N/A
PH3: (SDS) Brooks
BF3: (SDS) unit MFC
XE: N/A
Argon (high pressure): unit MFC
RP1: Ebara 40 x 20
RP2: Ebara 40 x 20
P1: Seiko Seiki H2000C
P2: CTI OB 8
P3: CTI OB 10
IG1: hot cathode ion gauge
IG2: N/A
IG3: hot cathode ion gauge
Currently installed.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200は、半導体部品の製造のためのイオンを製造および監視するように設計された高エネルギーイオン注入器およびモニターです。NV GDS 200は、複数のイオン注入プロセスを1つの統一された機器に統合し、生産性、精度、効率を最大化するために特別に設計された、信頼性の高い先進的なツールです。AXCELIS NV GSD 200には4つのDCハイエネルギーイオン銃が装備されており、それぞれにシャッターと独立した電源が備わっています。この銃は、最大190keVの調整可能なビームエネルギー範囲を提供し、より高いトン数とより広いインプラント機能を可能にします。EATON NOVA NV-GSD-200は、イオンビームの均一性とイオンインプラント領域の残骸濃度を測定することができる強力な現場モニターも備えています。このモニターは、190 keVまでのエネルギーのイオン、およびプロファイル、電流、電圧、ピッチ角を測定します。また、EATON NOVA NV GSD 200には、設定を制御し、データを分析するためのソフトウェア機能が搭載されています。このソフトウェアは、インプラントのプロセスを最適化し、プロセスの変動を減らし、一貫して高品質の製品を提供するのに役立ちます。EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-200は、システムのピーク性能を維持するように設計された自動メンテナンスシステムも備えています。自動化された機能には、視覚障害ユニット、電源の自動シャットダウン、およびインプランターの過熱を防ぐための安全マシンが含まれます。全体として、AXCELIS NV-GSD-200は、精密イオン注入とモニタリングのための強力で信頼性の高いツールです。4つのDCイオンガン、強力なインサイトモニター、洗練された自動メンテナンスシステムにより、NV-GSD-200は高精度のプロセスを可能にし、プロセスの変動性を低減し、一貫して高品質の製品を保証します。
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