中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #9402498 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS NV 8200Pは最先端のイオン注入器およびモニターです。このイオンインプラントとモニターは、半導体基板にイオンを埋め込むために使用され、半導体材料の電気特性を変更および改善するために使用できます。その名の通り、NOVAXCELIS NV-8200Pはハイエンドで高性能なAXCELISイオンソースを搭載しています。Novaイオン源は非常に効率的に設計されており、高度なイオンビーム最適化技術の適用により廃棄物を最小限に抑えながら、高ビーム電流と流体を生成することができます。EATON NOVA NV 8200 Pには、統合されたリアルタイムビームモニター、粒子分布モニター、およびエネルギー分散分光計を含む高度なモニターシステムもあります。この組み合わせにより、ビーム組成と特性を正確に制御することができ、イオンインプラントの正確なチューニングと最適化が可能になります。NOVAXCELIS NV 8200 Pは、幅広いプロセス能力を備えています。ホウ素、リン、ヒ素インプラント、窒素および酸素インプラントの製造および制御が可能です。また、浅いインプラントから接合部、深さまで幅広いインプラントを製造することができます。さらに、方形波や三角波などの様々なパルス形状を実行することが可能で、対象半導体基板に幅広い用量を埋め込むことができます。NOVAXCELIS NV 8200Pのインプラントおよびモニタリング機能に加えて、システムの正確なキャリブレーションを保証するための統合されたアライメントツール、および高いインプラント収率を達成するための鍵となる最適化されたスキャンアライメントも含まれています。EATON NOVA NV-8200Pは、高度に洗練された革新的なイオンインプランターとモニターです。高度なイオン源、プロセス、モニター、アライメントツールを組み合わせることで、イオン注入のための強力なツールとなり、無駄を最小限に抑えながら、インプラントのパラメータを正確に制御し最適化することができます。この非常に汎用性が高く、強力なイオンインプラントとモニターは、プレミアムデバイスの製造や半導体研究など、多くのアプリケーションに不可欠なツールです。