中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 8200 #293770174 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS NV 8200は、ナノファブリケーションプロセス内で重要な埋め込みおよび監視タスクを実行するための高度で高性能なイオンインプランター&モニター装置です。この汎用性の高いデバイスは、光学マスクを介して半導体材料にイオンを埋め込むことができます。これは、ビーム電流、ビームスポットサイズ、ビーム均質性、および入射イオンビームのビームプロファイルを正確に測定するためのイオン注入モニター（IIM）を備えています。このデバイスにはNumeric Implant Depth （NID）システムもあり、ユーザーは材料へのイオンの埋め込み深さを正確に制御することができます。AXCELIS NV 8200は、0。2 keVから25 keVまでの幅広いビームエネルギーを備えた高性能な計測能力を備えており、さまざまな用途に対応しています。また、高い精度と再現性でイオンを埋め込むことができます。0。025 nmの優れた分解能、6〜50ミクロンの垂直視野、10〜100ミクロンの平坦視野を提供する高分解能モノクロメータを備えています。EATON NOVA NV 8200は、すべてのインプラントおよびモニタリング作業のスループットと生産性を最大化するように設計されています。これは、リアルタイムのデータ収集機能を備えた自動コンピュータ制御監視ユニットを備えています。データ収集機は、埋め込みプロセスからのすべての関連データを保存するために使用することができ、埋め込みプロセスと埋め込まれた材料への洞察を提供するために分析することができます。NV 8200には、400-600°Cの真空入口温度で10-15mTorrの超低真空圧力を提供できる堅牢な真空ツールと、5 x 10-6 Torrまでの真空供給を備えた密閉ポンプ資産が装備されています。また、機器の異常な挙動を検知できるアラームモデルを内蔵し、遠隔操作が可能なマンマシンインタフェースなど、多種多様なメンテナンス・安全機能を備えています。結論として、EATON NOVA/AXCELIS NV 8200は、イオン注入およびモニタリング作業において優れた性能を発揮するために設計された強力で汎用性の高いデバイスです。高解像度イメージングと高度なモニタリングユニットにより、幅広いインプラントやモニタリング作業に最適です。