中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200AV #9411903 を販売中
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ID: 9411903
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2007
Medium current implanter, 6"
NESLAB Chiller
Chemicals: Phosphine, Arsine, Boron Triflouride dopants
PC Control system
Beam energies: 10-190 KeV
2007 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200AVは、高度な集積回路やその他の高精度の先端材料の生産のために設計された高度なイオノマインプランターとモニターです。この機械は、イオンを高電流密度で基板に埋め込むことができ、粒子トラップを排除する正確なドーピングと低ガス放出をもたらします。インプランターは、イオンの正確な移動と制御を可能にする反転星の構成に配置された25の高電圧セルのシリーズを使用しています。また、インプランターには電子ビーム診断システムが搭載されており、インプランターの性能に関するリアルタイムの決定が可能です。このツールは、正確さと正確さを念頭に設計されています。NovaAXCELIS NV 6200AVには最先端のアクティブモニターがあり、注入量、線量分布、スキャン範囲、粒度とともにピークイオン電流を提供し、最適な注入条件に関するフィードバックデータを提供します。このコントロールパネルは、電源安定化、急速な電圧ランピング、ビーム安定性など、さまざまな電源機能を提供します。これにより、非クリティカルなプロセスウィンドウ内に正確なイオン注入が可能になり、粒子汚染を低減し、チップの機械的安定性を向上させます。インプランターはまた、高電流、マルチセグメントのロードコイルアセンブリを備えています。これにより、イオン種ごとに精密な動作が可能となり、電流濃度が高くても均質なイオンフラックス領域が生成されます。イオンの正確な制御により、各層に必要なドーパント濃度を生成する正確なインプラントが保証されます。インプランターにはビーム集束システムが内蔵されており、埋め込み条件に合わせて最適な投影を保証します。EATON NOVA NV 6200 AVは信頼性が高く、高度なIonomer Implanter and Monitorです。それは正確で均質なイオン注入を保障し、一貫した結果を可能にする前例のない強力なリアルタイムモニターを備えています。このツールは、高精度IC製造および先端材料製造プロセスに必須です。
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