中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200A #293628042 を販売中
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ID: 293628042
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1990
Implanter, 6"
Energy: 5 to 200 kV
Accel PS: 180 kV
Extraction: 20 kV
Neutral gas: Argon
Hot source with oven
(3) Gas box lines with mass flow
(2) External gas box lines
Extraction housing
Magnet range: 125 Standard voltage
Dose uniformity and repeatability: 1 σ < 0.5%
Type: Dual platen, continuous through put, cassette to cassette
Fully automatic, pick and place
Throughput: 250/hr
Wafer tilting: 0 To 10°
Wafer orientation: 0 To 360°
Wafer breakage: Less 1 wafer out of 20000
Cooling water: 3 GPM with 80°F
Input temperature: 30 - 60 PSI
Compressed air supply: 90 - 125 PSI
Dry nitrogen: 60 - 70 PSI
Heat dissipation:
Air: 16750 BTU/hr
Water: 49000 BTU/hr
Exhaust air volume:
Gas box: 300 CFM (minimum)
H.V Terminal: 300 CFM (minimum)
Power: 24 kVA, 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz
1990 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200Aは、イオン注入の高精度、高精度、信頼性の高い処理を提供するために作成された高度なイオンインプランターおよびモニターです。これにより、イオン種、用量、エネルギー範囲に関係なく、ユーザーは最大の製造性能を得ることができます。AXCELIS NV 6200Aは、イオン注入の分野で最高の機器の1つです。EATON NOVA NV-6200Aのデザインは、その成功に大きな役割を果たしています。このマシンは、加熱、セルフクリーニング、石英真空装置を備えており、不活性ガスおよびダイオード技術に合わせて調整されています。超高真空（UHV）バージョンは、超低エネルギー炭化水素イオンに最適です。また、独自のラジアルフィールドテクノロジーを採用し、均一で多点注入プロファイルを実現しています。さらに、EATON NOVA/AXCELIS NV-6200Aは、さまざまな半導体プロセスに対応するために構築されており、複雑な埋め込み作業の柔軟性を高めています。AXCELIS NV-6200Aはまた、クローズドループのフィードバックと制御を可能にする統合モニターを備えています。このシステムにより、粒子ビーム電流、圧力、ガスの流れをリアルタイムで調整および補正することができます。さらに、モニターはさまざまなユニット条件を診断し、予防保全を可能にし、ナノメートルレベルまで信頼性の高い動作を提供します。これにより、ユーザーは、プロセス条件がチップトップ形状で維持され、核共鳴解析が可能になることを保証することができます。全体として、NV 6200Aは、最も複雑で高度な半導体加工の要件に対応できる強力で信頼性の高い機器です。これにより、さまざまなイオン種、用量、エネルギーを使用して、高精度で正確な着床プロセスを実現できます。Radial Field Technologyと統合されたモニタリングマシンを利用することで、製造性能が最大化され、多数のプロセスが正常に完了することを保証します。
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