中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200 #9266104 を販売中

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ID: 9266104
ウェーハサイズ: 6"
Implanter, 6" Application: Boron (B11+) ion implant Boron (BF2) ion implant Phosphorus (P+31) ion implant Energy: 5~200 KeV Dose: ~5E14 ions / cm² Beam current boron: <700 mA Phosphorus: <1,700 mA.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200は、イオンインプラントおよびドーピング装置の設計と製造を専門とする半導体部品会社Eaton Corporationが開発・製造したイオンインプラントおよびモニターです。AXCELIS NV 6200は、エネルギービームのイオンを使用して、ガリウム、ホウ素、リンなどのドーパント原子を、トランジスタ、集積回路、およびその他の種類のマイクロエレクトロニクスデバイスの基礎となる材料の層に埋め込む高精度なデバイスです。材料に希望するドーピングプロファイルを正確に作成するために、ドーパントイオンの連続出力を供給します。イオンインプランター装置は、出力を迅速かつ正確に監視および調整できる制御システムを備えています。それはエネルギー、ビーム電流、銃の電圧、部屋の圧力のようなすべての変数を等設定するオペレータと手動または自動モードで、動かすことができます。EATON NOVA NV 6200は非常に効率的で、24時間までの長期間中断なく動作できます。この機械は、シリコン、III-V化合物、多層基板など、数十種類の材料のインプラント率を測定します。NV 6200には一連の安全システムが装備されているため、オペレータは爆発物や有害物質の可能性を心配する必要はありません。すべての標準安全プロトコルは、デバイスによって監視されます。EATON NOVA/AXCELIS NV 6200は、Load Lock、 Variable Axis Scanner、 Symmetric Implant、 Beam Shapingなどのさまざまなオプションをサポートすることができます。モニターシステムは、すべてのパラメータを確実に満たすために、個々のコンポーネント間のトレーサビリティをサポートして、すべてのパラメータと表示エラーを測定できます。AXCELIS NV 6200は、マイクロエレクトロニクスデバイスの製造に使用されるプリリソグラフィープロセスに不可欠なツールです。精密な制御と信頼性と継続的に動作する能力を兼ね備えているため、信頼性と再現性の高い結果を必要とする生産ラインに不可欠なデバイスです。完全に自動化されたモニタリングシステムにより、プロセス全体にわたって結果が正確かつ一貫していることが保証され、歩留まりの向上と製造効率の向上が可能になります。
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