中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200 #9013661 を販売中

AXCELIS 6200は、半導体製造プロセス中に半導体基板にドーパントを埋め込むために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。1。5 x 10^7 cm-2 sec-1の最大用量率でイオン注入を行い、ホウ素、ヒ素、リン、アルミニウムなどの幅広い材料を注入することができます。EATON NOVA 6200には、すべてのパラメータと設定を正確に制御し、包括的なパフォーマンス監視システムを可能にするコンピュータ制御装置が装備されています。EATON NOVA/AXCELIS 6200は、イオンソースとアクセラレータの2つの相互接続ユニットで構成されています。イオン源は、望ましい種のイオンを作成する責任があり、正に帯電したイオンまたは負に帯電したイオンを作成するように構成することができます。加速器は、イオンのエネルギーを増大させ、着床時に基板に深く浸透させるために使用されます。この加速器は電磁界を利用してイオンの速度を増加させます。AXCELIS 6200は、5E15原子cm-2の最大用量で、浅い（1ミクロン未満）および深い（1ミクロン以上）の両方のインプラントを基板に注入することができます。また、長寿命を確保するための冷却ユニットを内蔵しています。このマシンは、50ミリ秒のサイクルタイムで直径200mmまでのウェーハを処理することができます。それに+/-0。5％の正確な線量の均等性の測定があります。EATON NOVA 6200は、データ通信用にも設計されており、お客様のネットワークに接続することができます。このツールは、Windows、 Macintosh、およびUnixオペレーティングシステムと互換性があり、リモートで監視することもできます。ユーザーは利用可能なすべてのパラメータと設定にアクセスでき、着床プロセスを完全に制御できます。このアセットはグラフィカルユーザーインターフェイスも提供し、包括的な監視とレポートを提供します。EATON NOVA/AXCELIS 6200は、浅い/深い埋め込み、コンタクトホール、小さなウェハ上のインプラントなどのアプリケーションに最適なツールです。このモデルはユーザーフレンドリーで、お客様の既存の半導体製造ラインに簡単に組み込むことができます。