中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 3206 #9105737 を販売中

EATON NOVA/AXCELIS NV 3206 Ion Implanter and Monitorは、高精度イオン注入および半導体デバイス製造用に設計された中容量機器です。Tandem Mass Analyzerは、特許取得済みの「3窓」技術で、基板から基板までのインプラント精度と再現性を保証します。このモニターは、あらゆる種類の埋め込み可能な材料を高精度に配置するために同時に動作する最大4つのビームを備えた、幅広い埋め込み速度を提供します。AXCELIS NV 3206は、電子デバイスやフォトニクスデバイスなどの半導体素子の製造や、マイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）の製造に最適です。1,000 アンペア/cmのビーム電流定格と、100万分の1未満の質量精度で、センチメートル平方あたり90マイクロアンペアまでのインプランタ線量率を備えています。このデバイスのコンピュータ制御ユーザーインターフェイスは、用量、エネルギー、周波数、スポットサイズなどの埋め込みパラメータを含む正確なユーザー定義インプラント・プログラムを可能にします。このシステムには、背景粒子数を最小限に抑え、さまざまな移植実行で可能な限り最高の再現性を提供するように設計されたイオンビーム抽出ユニットも含まれています。高精度のビームシフトを備えたモニターは、高精度のイオン注入操作を可能にするために、幅広いエネルギーと電流の組み合わせを可能にします。さらに、このマシンの高帯域幅Eフィールドコントロールは、2つの最適化されたEフィールドプロファイルと基板グレーディング用の可変極性モードを選択できます。EATON NOVA NV 3206は、生産と試作の両方のインプラントのパフォーマンスを最適化するための信頼性の高い汎用性の高いツールです。イオンソース設計により、ダウンタイムを削減し、全体の生産歩留まりを向上させます。また、ビーム純度を保証し、デバイスのイメージング特性を向上させる慣性安定化ビーム搬送アセットも備えています。また、モニタリング機能と診断機能が内蔵されているため、インプラント操作の迅速かつ正確なフィードバックと分析が可能です。