中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9412140 を販売中
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ID: 9412140
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1986
Ion implanter, 6"
Energies: 20~160 keV
Minimum beam current: 10 μA
Dose range: 5.0E12 to 5.0E15 Atoms / cm²
Beam current for 80 kev:
Energy (keV) / B11 (mA) / As75 (mA) / P31 (mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
140 / 3 / 5 / 5
Throughput:
Batch size: 10 Wafer
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 Sec
Vacuum performance:
Diffusion pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Maximum wafer temperature control: 100°C
X-Ray emission ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) at 150 mm
No UPS
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 4 Wire, 45 kVA, 125 Amp, 60 Hz
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160は、マイクロチップやその他の重要な半導体デバイスの製造に必要な、正確で正確なイオン注入を提供するように設計された高エネルギーイオン注入器およびモニターです。この機械はイオンのビームを使用して、ターゲット基板に加速して正確に集中し、スキャンして基板の特性を変更し、正確なパターンと複雑な構造を作成します。AXCELIS NV10-160は、正確で安全なイオン注入のための信頼性の高いツールです。EatonのCentral Processing Unit （CUP）を搭載しており、独立したビームモニタリングシステム、高圧スイッチ、アルミニウムビームケージ、安全なガス処理のための高圧ガスラインなど、事故を防ぐためのさまざまな安全機能を備えています。EATON NOVA NV 10160は、160 kVのピーク電圧と1e+13 ions/cm²の最大注入量で動作します。この機械に注入の線量、エネルギー、電圧および流れの精密な制御を提供する40mAまでビーム流れがあります。さらに、NV 10160には、深度プロファイリング、電流密度、用量などの正確で正確なインプラント・データを提供するコンピュータ解析システムが装備されています。AXCELIS NV 10-160は、この高度な技術を使用して、シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム、鉄などの金属やポリマーなどの幅広い材料を埋め込むことができます。また、ヒ素やリンなどのドーパントの埋め込みも可能です。その大きなチャンバーサイズは、正確さと均一性を損なうことなく、大きな基板を埋め込むことができることを意味します。EATON NOVA/AXCELIS NV10-160は、高度な半導体やその他の高度な部品の製造に最適なツールです。その精度と信頼性は、研究室、産業製造工場、または正確なイオン注入を必要とするその他の設定に最適です。要するに、EATON NOVA/AXCELIS NV 10160は、あらゆるイオンインプラント用途で最高レベルの精度と精度を必要とする人々にとって貴重なツールです。
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