中古 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #293821332 を販売中

EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160
ID: 293821332
ウェーハサイズ: 4"-6"
Ion implanter, 4"-6".
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160は、イオンを様々な基板に注入し、その特性を向上させるために使用される高度なイオン注入器/モニターです。この機械は半導体製造業で利用され、基板に広い範囲のイオンを埋め込むのに使用することができます。AXCELIS NV10-160は、強力なイオン源と調整可能なビームパラメータを備えており、イオンを正確な制御で基板に埋め込むことができます。EATON NOVA NV 10160には10cm x 160度のイオンビームが装備されています。これにより、X軸では+/-100mmあたり10マイクロメートル、Y軸では+/-1度の精度でイオンを埋め込むことができます。また、投影長は最大15cmで、より遠くにイオンを埋め込むことができます。イオン源は、最大5キロボルトの電圧で最大1.6Aの電流を生成することができ、その結果、最大32mA/cm2のビーム電流密度が得られます。これにより、基板にイオンが均一に埋め込まれ、デバイスのパフォーマンスが向上します。EATON NOVA NV10-160は、さまざまな監視システムと統合されています。イオンビーム位置監視制御装置(IPMC)は、X軸に+/-1マイクロメートル、Y軸に+/-1度の精度でビーム位置を測定および微調整することができ、イオンを正確に埋め込むことができます。さらに、ビーム電流および強度モニタリング(BCIM)システムは、ビーム電流と強度を測定および制御することができ、イオンが基板に均一に移植されることを保証します。EATON NOVA/AXCELIS NV 10160の電子制御ユニットは、マルチページのグラフィカルユーザインタフェース(GUI)を備えています。これにより、イオンインプラントのパラメータを素早く変更でき、プロセスのサイクルタイムを最適化できます。さらに、さまざまな安全プロトコルと複数のセーフガードを提供し、ユーザーがイオンインプラントのプロセスを安全に制御できるようにします。全体的に、EATON NOVA/AXCELIS NV10-160は、高度なイオンインプランター/モニタリングマシンです。イオン源と調整可能なビームパラメータを備えており、正確な制御でイオンを埋め込むことができます。さらに、さまざまな監視システムと統合されており、ユーザーはプロセスサイクルタイムを最適化し、ユーザーの安全性を確保することができます。
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