中古 EATON NOVA / AXCELIS GSD #9201110 を販売中

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ID: 9201110
Ion implanter Currently crated.
EATON NOVA/AXCELIS GSDは、最新の半導体プロセスに対応するために開発された高度なイオンインプラントおよびモニタです。最新の機能を備えており、幅広い業界目的に対応しています。イオン注入技術の分野の革新であり、高性能、信頼性、汎用性を提供するために構築されています。AXCELIS GSDは高度な真空装置をイオン源として利用し、インプランタモジュールはイオンビームを生成してドーパントとイオンを基板に導入します。ドーパントは、半導体の導電性を高めるのに役立ち、より効率的に動作することができます。デュアルビームライン構成や他の成果物パラメータなど、さまざまなイオンソースで簡単に構成でき、さまざまなアプリケーションに適しています。さらに、EATON NOVA GSDは、システムのパフォーマンスを定期的に評価する組み込みソフトウェアモニタを備えています。モニターはインプランターへのリモートアクセスを可能にし、オペレータは機器の健康と安全を監視することができます。さらに、電子データ管理ユニットを使用すると、ネットワーク接続されたハードドライブを介してデータを保存し、必要なときにいつでも簡単にアクセスできます。GSDはまた、精密なレーザーアライメントのために統合されたモジュールで設計されています。複雑なウエハパターンに対して優れたビーム制御を提供し、より正確で正確な結果をより少ないエラーで実現します。さらに、オペレータは、ゴールドやチタンなどの非常に薄い層の材料をウェーハ表面に堆積させることができます。この技術は、ドーピングプロセスの均一性を向上させます。さらに、EATON NOVA/AXCELIS GSDは、潜在的な問題をオペレータに警告する安全装置でも設計されています。危険な状況が発生した場合、イオンビームを停止して隔離し、機器とオペレータの両方を害から保護します。このツールには、オペレータのリスクと危険を軽減する安全ガードも統合されており、必要なタスクを正確に実行できます。全体として、AXCELIS GSDは最先端のイオン注入器およびモニターです。ユーザーフレンドリーで、優れたパフォーマンスを提供するように設計されています。また、あらゆる半導体処理環境にメリットをもたらす、信頼性の高い汎用性の高い技術です。
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