中古 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9026352 を販売中
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ID: 9026352
Ion implanter, 8"
(13) Batch wafers
Application process: High current implanter
System software Version: 4.9.1 (Sun OS)
Utility gas:
CDA, Machine air, Swagelok, 3/8" Sus male
Ar, Process air, Swagelok, 3/8" Sus male
PN2, Process vent, Swagelok, 3/8" Sus male
GN2, Purge vent, Swagelok, 3/8" Sus male
Exhaust:
(2) Environment, GEX, 500 CFM, 8" PVC, has exhaust hood
(2) RP Exhaust, SEX, 2" Sus, has exhaust hood
(1) Cyro pump, SEX, 20 CFM, 2" Sus, no exhaust hood
(1) Gas cabinet, SEX, 500 CFM, 8" PVC, 1, has exhaust hood
(1) Source cleaning exhaust, SEX, 65, 2.5" PVC, no exhaust hood
Cooling water:
(2) RP Cooling water, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 3/8"
(1) City water, 55~75 psi, 7.5 GPM, 24º C, 1", to DI cooling water
(1) Cyro compressor, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 1"
Endstation module:
(4) Cassette table (280 mm)
(2) Load buffer
(1) Dummy buffer
Mini-environment: Synetics
ATM Robot: OK
Notch/Flat finder: Notch type
Vacuum cassette: STD (VESPEL Support pin)
Load port interface: N/A
Beam profile oscilloscope: Tektronix TDS 210
Cell controller/version: Cell 177 (1915690, Rev. A)
Loadlock type: STD
Main SUN computer: Sparc station 5
Main monitor: 17", LCD
Second SUN computer: Yes (function unknown)
Second SUN monitor: N/A
Tape reader: NG
Printer: N/A
Process module:
Disk: Seg Si Coated, P/N: 11027061
Flag faraday with SRA: OK (11019550)
Electron/plasma shower: P-shower (1190160)
Plasma shower filament PS: Yes (EMS)
Bias aperature: Yes
Shower gas panel: Yes (STEC SEC-7320, 2 sccm)
Water bleed MFC: MKS (Type: 1150)
Ar/Xe Beamguide gas: Motor control
In-Vac arm: Yes
Wafer holder: Yes
Disk wafer clamp/unclamp: Roller type (1180270)
Gyro/Angle: NV-GSD-100
Linear drive: OK
Rotary drive: Direct drive
HYT Sensor: Yes (20SX)
Beam profile holes: N/A
Disk RGA Port: Yes
Resolving housing RGA Port: N/A
Wafer charge sensor: Yes
P-Shower charge monitor: Yes
P-Shower disk current: Yes
Loadlock controller type: 4-Axis DI
In-air wafer xfer controller: 4-Axis DI
Robot controller: 4-Axis DI
Beamline module:
HV Power supply: Hitek Power Inc.
HV Stack: OL8000/104/30, 100 KV
Post Accel. Volt: N/A
Extraction suppression PS: Glassman, PS/NV-15NN33, 2200158
AMU: Acelis
AMU PS: EMS 40-150-2-D0816
Hall probe: Axcelis
Max. extraction voltage: 90 KeV
Beam profiler hole: N/A
Decel function: N/A
Beamline purge kit: N/A
Source module:
Source head/vaporizer: ELS/No vaporizer
Filament PS: EMS 10-60
Arc PS: EMS 150-7
Cathode PS: yes
Vaporizer PS: N/A
Source magnet: Axcelis
Source magnet PS: EMS 25-25
Source bushing: Orange
Extraction assembly: Yes
Variable resolving aperture: Yes
Source ISO Transformer: STD
Source injection kit: N/A
Source cleaning exhaust: Yes
Block type: N/A
Gas box module:
Gap Loop #1: Ar, HP
Gap Loop #2: BF3, SDS
Gap Loop #3: AsH3, SDS
Gap Loop #4: PH3, SDS
Loop #1 MFC: MKS 1179A-14493, Ar, 10 sccm
Loop #2 MFC: MKS 1640A-011, BF3, 10 sccm
Loop #3 MFC: MKS 1640A-011, AsH3, 10 sccm
Loop #4 MFC: MKS 1640A-011, PH3, 10 sccm
Vacuum system:
P1/Source turbo: A2203C, SEIKO SEIKI
P1 Controller: STP-A2203C, SEIKO SEIKI
P2/Beamguide Cyro pump: CTI OB-8
P3/V3 Cyro pump: CTI OB-10
P9/Disk Cyro pump: N/A
RP1: Remote
RP2: Remote
IG1: SUZUKI G-75-NTT
P IG1: SUZUKI G-75-NTT
IG2: SUZUKI G-75-NTT
IG3: Stabile ion gauge
IG Controller: M/N: 360
Safety options:
(4) Smoke detectors
VESDA: N/A
CES Options: N/A
Others:
(2) Ground bars
Enclosures: OK
Ground indication lamp: N/A
INO Kit: N/A
Drawings/Manuals: N/A
SECS/GEM Function: OK
System 24V UPS: N/A
Light tower: G/Y/R
SPC Function: OK
Does controller pcomp. algorithm type: Turbo dose DI (1526990)
Spare parts: N/A
Alignment tools: N/A
Sub-systems:
Main Transformer: TAVR, 3 Phase, 60 Hz, 50 KVA, Pri. 440 V
RP1: Ebara, A70WN
RP2: Ebara, A70W
Compressor 1: CTI_CRYOGENICS, 9650
Input power: 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA
Output power: 90 KeV, 20 mA
2001 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2は、EATON NOVA Technologies、 Inc。の部門であるAXCELISによって開発されたイオンインプラントおよびモニターです。優れた性能、信頼性、およびイオン注入プロセスの汎用性を提供します。AXCELIS GSD 200E-2は、それぞれ8kVと3。0T/mまでの幅広いインプラント深度と直径を提供します。クローズドビームライン設計を採用し、ソースとビームラインガスシステムを装備しています。ビームラインの外側から調整されたガスシステムは、最適な粒子エネルギー、作業圧力、角度形状、フィラメントの位置を提供します。EATON NOVA GSD 200 E2には、手動操作と自動化された操作の両方のための最先端の制御システムが装備されています。タッチパネルの表示から、ユーザーは部屋の圧力、フィラメントおよび設定を制御できます。また、温度、電圧、ガスレベルなどのシステムをリアルタイムかつリモートで監視できる診断機能も内蔵しています。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2は、取り外し可能な機械式シャッターで構築されており、さらなる安全性と精度を提供します。安全性などの性能面では、AXCELIS GSD 200 E2には音響エンクロージャ、半導体加工の安全要件を満たす放射および真空エンクロージャが装備されています。AXCELIS GSD 200E2は、高性能インプランタサービス市場で高速かつ正確な測定を提供できる唯一のイオンインプラントおよびモニタです。GSDは正確なインプラントを提供200E2だけでなく、プロセス全体で環境を監視および制御します。粒子軌道、ビームプロファイル、および統計パラメータを検出して応答することができます。高度なセンサーとソフトウェア設計により、システムは正確な埋め込み性能と少ない粒子損傷を保証することができます。さらに、EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 E2は、小さな粒子をタイトに埋め込むことができます。これは、MEMSやその他のマイクロデバイス製造などの技術プロセスに不可欠です。EATON NOVA GSD 200E-2は、さまざまな粒子タイプとサイズ、および異なるイオン種間の高速スイッチングを備えています。高精度で劣化を最小限に抑えたGSD 200E-2は、市場で最も高性能なイオンインプラントおよびモニターです。
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