中古 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200-HC #293829781 を販売中

ID: 293829781
ウェーハサイズ: 6"
Ion implant, 6" (4) Cassettes Standard specific layout ELS Source Source analyzer magnet Y Scan and rotary Beam energy configuration: Beam energy: 10 ~ 160 keV Extraction mode: 10 ~ 80 keV Acceleration mode: 10 ~ 80 keV Vacuum pump system: Diff pump: Diff pump8 Cryo pump: CTI-8, CTI-10 Cryo compressor: CTI9700A Dry pump: IQDP40, IQDP80 Gas / Model / MFC Type AsH3 / MFC / SDS PH3 / MFC / SDS BF3 / MFC / SDS Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HCは、高精度の半導体加工アプリケーション向けに設計された最先端のイオンインプラントおよびモニタです。高度な技術と革新的な機能を活用して、この機器はイオン注入プロセスで比類のない性能と信頼性を提供します。AXCELIS GSD 200-HCの中核には、優れた精度と精度で焦点イオンビームを生成できる高電流イオン源が搭載されています。このイオン源は真空チャンバー内に収容され、汚染を最小限に抑え、着床プロセス全体で一貫した性能を保証します。イオン注入プロセス自体は、材料特性を変更し、特定の電気特性を作成するために、高エネルギーイオンで基板を爆撃することを含みます。EATON NOVA GSD 200-HCは、イオンのエネルギー、用量、分布を正確に制御し、望ましい埋め込みプロファイルを実現することができ、幅広い半導体製造アプリケーションに最適です。GSD 200-HCの主な特徴の1つは、イオンビームを高精度に操縦して焦点を合わせるための静電気及び磁気要素を含む高度なビームラインシステムです。このビームラインユニットは、注入プロセスを正確に制御し、イオンが最小限の発散と散乱で基板に供給されるようにします。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HCは、その優れたビームラインマシンに加えて、移植プロセスを最適化するための包括的な監視および制御ツールを備えています。この資産には、ビーム電流、エネルギー、用量などの主要パラメータのリアルタイム監視が含まれており、オペレータはプロセスを微調整して最適なパフォーマンスを得ることができます。AXCELIS GSD 200-HCのもう1つの重要な特徴は、基板のロードとアンロードを自動化してダウンタイムを最小限に抑え、スループットを最大化する高度なウェーハハンドリングモデルです。この装置は、さまざまな基板サイズや形状に対応できるため、さまざまな半導体製造用途に非常に汎用性が高くなります。イオン注入プロセスの安全性と信頼性を確保するために、EATON NOVA GSD 200-HCにはさまざまな安全インターロックとモニタリングシステムが装備されており、事故を防ぎ、円滑な動作を保証します。これらの安全機能には、放射線検出センサ、真空漏れ検出器、オペレータや機器を保護するための緊急シャットダウン機構などがあります。全体として、GSD 200-HCは、半導体製造用途において卓越した性能、信頼性、汎用性を提供する最先端のイオン注入器およびモニターを表しています。高度な技術と革新的な機能により、このシステムは半導体業界の高精度インプラント処理に適しており、デバイスの性能と歩留まりを最適化するための不可欠なツールとなっています。
まだレビューはありません