中古 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #293767058 を販売中

LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extremeは、半導体製造業界の世界クラスのエッチャーおよびアッシャーです。これは、重要なエッチングおよび灰の操作のための高度な精度と低い欠陥を提供するように特別に設計されています。NOVELLUS Vector Extremeは、革新的な高密度デュアルソースプラズマ処理技術を使用して、制御の向上、粒子生成の低減、およびラインエッチングのバックエンドのスループットの向上を実現します。また、幅広いエッチングケミストリーをサポートし、高度なノードデバイスの多目的プロセス最適化とコスト効率の高い処理を可能にします。LAM RESEARCH VECTOR EXTREMEエッチャー/アッシャーは、幅広いパッケージフォーマット、サイズ、サイズをサポートしながら、さまざまなデバイス構造やアプリケーションに最大限の柔軟性と拡張性を提供します。高度に構成可能な750mmプラットフォームを備えており、最大3750mm2のダイサイズに対応できます。その他の主な機能には、DVDアプリケーションのエッチングプロセスを最適化する高度な物理モデリング機能であるDynamic-Etch Technologyがあります。精密なエッチングプロセス制御のための独特なピークおよび谷のトレースの高さの補償の技術であるミクロン正確さの水平になること（MAL）；そして拡張可能なウェーハチェンジャー（EWC）、プロセスの柔軟性を最大にする凝集性のあるオープンアーキテクチャのモジュール式ワークハンドリングシステム。Vector Extremeのリフトオフエッチング機能は、処理中にウェーハをチャック上に移動する必要を最小限に抑えながら、ウェーハ全体の圧力変動を低減するように設計されています。さらに、LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREMEには、高度な高温ハイドライドCVD （AHT-CVD）などの高度なクリーン機能が含まれており、プロセスの安定性と粒子発生を最小限に抑えます。Active Process Monitoring （APM）、 Process Adapter Autotuning （Process Adapter Autotuning）、 Extended Recipe Based Interfacing （ERBI）などの堅牢なプロセス制御機能により、複数のターゲットで正確なチューニングが可能になり、エッチプロセスの最適化が容易になります。NOVELLUS VECTOR EXTREMEは、今日最も要求の厳しい半導体デバイス要件を満たすための幅広い機能を備えた信頼性と堅牢性を提供します。LAM RESEARCH Vector Extremeは、高度な技術、高スループット、設定性を備えており、半導体業界のあらゆるエッチングおよびアッシングのニーズに最適です。