中古 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #9362218 を販売中

LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express
ID: 9362218
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
CVD System, 12" 2005 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Expressは、半導体構造の精密なエッチングとアッシングを可能にする高度なエッチャー/アッシャーです。NOVELLUS Vector Expressは、高度な技術を使用して、従来のエッチングプロセスの最大10倍の高速エッチング速度を実現します。LAM RESEARCH Vector Expressは、半導体製造における最大限の柔軟性と生産性を可能にするように設計された、完全に統合された費用対効果の高いエッチングおよびアッシング装置です。Vector Expressは、25 cm/minの最大処理速度を可能にする強力な制御システムにより、高スループットを提供します。LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Expressは、4軸モーションユニットを活用し、X、 Y、 Z軸に沿った同時移動や補助回転軸を実現し、精密なプロセス制御が可能です。NOVELLUS Vector Expressは、特許取得済みの非接触オートフォローメカニズムを使用して、単一のセットアップで大きなウェーハのエッチングおよびアッシング操作を実行できます。LAM RESEARCH Vector Expressのコア技術は、高いエッチング率と優れた均一性を持つDCプラズマソースです。DCプラズマソースは、少ないガスを使用するため、消耗部品を最小限に抑え、非常に低いメンテナンスを必要とするため、所有コストが低くなります。DCプラズマソースは、特定のアプリケーションのエッチングを可能にするさまざまなガスもサポートしています。さらに、Vector Expressは、高度なプラズマソースを使用して、ウェーハ全体の数千分の1ミル以内のエッチング深度を厳密に制御することができ、比類のないレベルのエッチング深度の均一性を提供することができます。LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Expressは、ワンクリックで正確なプロセス制御を提供するように設計された高度なプロセス制御機能を備えています。Advanced Automated Etch Control (AAEC)やLow Total Pressure Etch (LTPe)などの高度なソフトウェアツールを提供し、セットアップ時間を最小限に抑えて高いプロセス歩留まりを実現します。さらに、NOVELLUS Vector Expressは、プロセスチャンバーからの化学反応性エッチングおよび灰ガスの信頼性が高く効率的な排気を提供するために、非常に長い排気プレナム設計を備えています。結論として、LAM RESEARCH Vector Expressは、最高の生産性とプロセス性能を提供するように設計された高度なエッチャー/アッシャーです。特許技術と高度なプロセス制御機能により、Vector Expressは最高のスループットで高品質のエッチングとアッシングを実現します。
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