中古 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #293800039 を販売中
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ID: 293800039
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2010
System, 12"
Primary process module: SION
Secondary process module: PEOX
RPC Generator: Astron EX
RF Configuration: SIRF
Interconnect cable length: 100 ft
Heated top plate
Nickel-plated chamber
Top plate tubing size, 1/4"
Chemraz chamber gate valve
Apex HF Generator: 3 kW
PDX 2500 LF Generator
Chemraz O-Rings
Process manometer
(4) Viewports
Servo spindle
Pedestal, 12"
Minimum Contact Area (MCA): Pin and ball
Carrier ring
Standard shower head
Rapid pin kit
Gas box options:
Gas box interlock: H2 on channel 3
13-Channels
Non-standard system features:
NSR504691
NSR505199
UI Options: Ballroom
UI Location: Left
4-Color light tower
Front signal tower mount: Buzzer arm mount
Facial color: Sky white
BROOKS AUTOMATION ATM Robot
Friction end effector
(2) FOUPs
BROOKS Load port type
BROOKS RFID Reader
Mini environment lamp color: Yellow
No ionizer kit
TAKEX Light curtain option
EMO
FFU
KASHIYAMA NV60 Load lock pump
PC With cart
Cable length: 50 feet
Operating system: Windows 2000
2010 vintage.
LAMLAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Expressは、さまざまな産業用途に使用される高度な高性能エッチャー/アッシャーです。この装置は、シリコンやドープされたシリカガラスなど、さまざまな半導体材料をエッチングまたは灰にするように設計されています。幅10ミクロン、奥行き200ミクロンまでのエッチングが可能です。NOVELLUS Vector Expressシステムには、主な処理ユニット、ガス処理モジュール、リモートコントローラが含まれています。主要な処理単位はマスフローのコントローラー、電源、RFの発電機、負荷ロックおよびアニーリングステーションから成っています。ガスハンドリングモジュールは、必要に応じてエッチング剤と保護剤を含むプロセスガスをチャンバーに供給します。ロードロックは最大2つのウェーハを保持でき、ユニットの高速ロードとアンロードが可能です。LAM RESEARCH Vector Expressには、ガラス中のシリコンまたはマイクロパイプの分離のための異方性ウェットエッチングなど、さまざまなエッチング処理が装備されています。そのマルチステップエッチング（MSE）プロセスは、欠陥や破損を引き起こすことなく、必要な形状の深い溝を作成することができます。また、シリコンとの密接な接触に必要な形状を作成するために使用されるフォトリソグラフィーベースのエッチング工程であるボッシュ装置エッチング工程も提供します。Vector Expressはアニーリングも提供しています。このプロセスにより、ウェーハは割れずにパターン化され、不要な欠陥を減らし、歩留まりを改善することができます。材料に応じて、低圧急速熱アニール、低圧RFアニール、または低張力RFアニールを適用できます。また、O2プラズマを使用してデスミアリングを追加し、エッチングされた機能を酸化物なしで洗浄することも可能です。結論として、LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Expressツールは、さまざまな産業用途に高い歩留まりを提供できる高性能ツールです。これは、絶縁材や異なる材料の共同統合を含む、異なる材料のためのエッチングプロセスの広い範囲を提供しています。また、歩留まりを最適化し欠陥を低減するための高度なアニーリングプロセスと酸素プラズマ洗浄を提供しています。
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