中古 LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed #9351453 を販売中

LAM RESEARCH/NOVELLUS Speedは、高度な半導体製造に使用されるエッチャー/アッシャーです。最適なスループットを実現するよう設計されており、1時間あたり最大600個のウェーハ処理が可能です。これは、高度な半導体デバイス処理における最も厳しい作業のために設計された、高性能、高スループットエッチャーです。NOVELLUS Speed Etcherのコア技術は、高度なプラズマ源と組み合わせたhighLAM RESEARCH Speedガスシステムです。ガスシステムは、さまざまなガス分配器を使用しており、ウェーハの表面を均一に分布させることができ、プラズマ源は幅広い種類のガスや圧力から選択することができます。これにより、エッチングプロセスの正確な制御、横方向のフィーチャーサイズの微調整、および工場全体のスループットの効果的な最適化が可能になります。エッチング工程は、反応イオンエッチング（RIE）と同じ原理に基づいています。速度には、ロードロックチャンバー、エッチングチャンバー、プラズマ源、ガスシステムが装備されています。ウェーハはロードロックチャンバーにロードされ、プリクリーニングおよびプリトリートメントプロセスを受けて、処理用のウェーハ表面を準備します。プリクリーニングとプリトリートメントプロセスの後、ウェーハはエッチング室に移され、そこで反応ガスが注入されます。チャンバーに使用される圧力とガスのタイプは、所望のエッチング結果を得るために制御されます。エッチング室でプラズマを生成してエッチングを開始し、加熱した反応ガス分子がウェーハ表面と反応して薄い表面膜を形成してエッチングします。このエッチャーには、in-situチャンバ診断パッケージ、手動オーバーライド、および最適なエッチング結果を確保するための高度なユーザーコントロールなど、いくつかの制御インタフェース・モジュールもあります。前洗浄や前処理からエッチングまで、プロセス全体を監視および制御する機能により、プロセスの均一性を最大限に高め、小旅行を最小限に抑えることができます。LAM RESEARCH/NOVELLUSスピードエッチャーは、大量生産のための効果的で信頼性が高く、手頃な価格のエッチングソリューションであることが証明されています。その柔軟性とユーザーフレンドリーな制御インターフェースは、製造コストと生産スループットを高く抑えたいメーカーにとって理想的なツールです。デバイスのディープエッチングや単純な平面化、化学機械的研磨に使用されるかどうかにかかわらず、NOVELLUSスピードエッチャーは最高の結果を提供します。