中古 LAM RESEARCH / DRYTEK 384T AMN #9386131 を販売中

LAM RESEARCH/DRYTEK 384T AMNドライエッチャー/アッシャーは、精密なエッチングと複数の層の同時アッシングを必要とするアプリケーション向けに特別に設計されたツールです。この装置は、高い均一性、再現性、および層の信頼性で、エッチングとアッシングの高いレートを生成することができます。コンパクトで信頼性の高い設計でエッチングとアッシング機能を提供します。DRYTEK 384T AMNは、エッチングとアッシングに3段階のプラズマソース設計を採用しています。この設計は、RF発電機、高密度プラズマ源、真空装置で構成されています。発電機は最大8,000ワットの電力を供給することができ、高いエッチングとアッシング速度を可能にします。高密度プラズマ源は、均一な反復可能なエッチングを提供し、エッチング工程の粒度制御を提供します。真空システムは、1 mTorr以下の基圧が可能で、クリーンで乾燥したエッチング/灰の環境を作り出します。LAM RESEARCH 384T AMNはまた、エッチング工程の熱循環が可能なチャンバー設計を採用しています。これにより、エッチングのパフォーマンスと信頼性が向上します。さらに、このチャンバーには、高密度プラズマ生成と優れたプロセス均一性のための磁石右の配置が組み込まれています。このチャンバーには、急速なサーマルサイクリングに不可欠な石英ウェーハボートと、正確な再現可能なエッチングとアッシングのためにガス流量を正確に制御できるガス分布マニホールドも装備されています。AMNユニット384T、エンドポイント検出機、診断ガスインジェクションツール、インターロックアセット、プラズマソース監視モデルなど、幅広いプロセスツールを備えています。これらのツールは、プロセス制御を改善し、エッチャー/アッシャーが均一で反復可能な結果を提供できるようにします。結論として、LAM RESEARCH/DRYTEK 384T AMNドライエッチャー/アッシャーは、複数の層を同時にエッチングおよびアッシングするための効率的で信頼性の高いツールです。3段階のプラズマソース設計、サーマルサイクリングが可能なチャンバー設計、および精密なエッチングとアッシングを提供する幅広いプロセスツールを利用しています。これらの機能はすべて、さまざまなアプリケーションに最適なツールです。