中古 ULVAC V10-100LC #9350452 を販売中

アルバックV10-100LCは、さまざまな化学プロセスで使用される拡散炉とアクセサリーです。LPCVD （Low-Pressure Chemical Vapor Deposition）と呼ばれるプロセスにおける材料の拡散のための正確で低温環境を提供します。このタイプの炉は主に材料の薄膜を成長させるために使用され、半導体産業でアクティブおよびパッシブ部品の製造に使用されます。V10-100LCは、-50°C〜800°Cの温度範囲と0。1〜0。2°C/minの低熱勾配を提供するために、低真空環境を利用した独自の設計を特徴としています。システムには、正確な温度、電力、および圧力監視および制御が可能な高度なデジタルコントローラが含まれています。さらに、炉には温度測定用と圧力測定用の2つの熱電対が含まれています。ULVAC V10-100LCのユニークな設計は、複数の被覆水晶チューブを備えており、システムの他の部分から物理的に隔離された低真空環境での沈着を可能にします。これにより、炉全体で均一な温度制御と、より一貫したプロセスが保証されます。さらに、石英加熱素子、高効率の断熱材、CAD/CAM最適化された鐘型カバーを使用して、優れた温度均一性を提供します。V10-100LCの追加機能には、急速冷却機能、高い放射率、およびプロセスサイクルの終わりに自動シャットオフを実行する機能が含まれます。ULVAC V10-100LCの小型フットプリント、軽量、頑丈な設計により、産業用途に最適です。さらに、このシステムは柔軟性を念頭に置いて設計されており、さまざまな生産プロセスに簡単に適応できます。V10-100LCは、さまざまな材料の低温拡散のための経済的で汎用性の高いソリューションです。低温動作、高精度制御、コンパクト設計により、半導体産業やその他多くの用途において薄膜材料の製造に最適です。