中古 ULVAC Rise 300 #293608977 を販売中

ULVAC Rise 300
製造業者
ULVAC
モデル
Rise 300
ID: 293608977
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2014
System, 12" Process: DIFF 2014 vintage.
ULVAC Rise 300 (Ultra Low Vacuum Access Chamber)は、ULVAC Technologies、 Inc。の先進的な拡散炉およびアクセサリです。精密な温度制御、精密な真空グレード、および半導体業界のさまざまな用途に対応する大型基板の加工能力を提供します。Rise 300には、4つの水平反応ゾーンと1つの垂直反応ゾーンが装備されており、正確な温度均一性を実現する環境制御コンテナがあります。容器のサイズは16 "x 18" x 24"であり、2。5" x 4"まで基質を扱うことができます。4つの反応ゾーンの最高温度は1600°Cで、各ゾーンの実際の最高温度は、危険な状態を防ぐTC/RTDセンサーによって継続的に監視されます。頑丈な水晶ふたは放射の損失を除去し、精密な温度調整を提供するように設計されています。ULVACの上昇300は0。0033 Paまで精密な真空の等級を提供します。それは他のどの拡散の炉よりもかなり速く高真空レベルに達することを可能にする適応されたオイルポンプおよびターボ分子ポンプと造られます。ベントバルブ設計により、真空損失を防止し、処理中に高い真空レベルを維持して汚染を最小限に抑えます。Rise 300はULVAC独自の火災&忘れ技術を搭載しています。これにより、ユニットは1つのセットアップで、最大72時間の手動介入なしで一連の操作を実行できます。また、1つのプロセスまたは最大6つのプロセスを連続的に実行し、任意の順序または組み合わせで繰り返すことができ、プロセス要件に合わせて柔軟に対応できます。ULVAC Rise 300にはユーザーフレンドリーなLCDコントロールパネルが付属しており、1つの場所からさまざまなプロセスを簡単にプログラミングおよび管理できます。また、サンプルのスループット時間を増加させる光放射分光計も内蔵しています。さらに、Rise 300には、プロセスの安全性を確保し、ユニットの寿命を延ばすための最新の安全機能がすべて装備されています。また、環境規制に準拠するように設計されており、あらゆる半導体チップ製造施設に最適です。
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