中古 ULVAC H6350 LH / RH #9409629 を販売中

アルバックH6350 LH/RHは、半導体デバイスの製造に使用するために特別に設計された拡散炉およびアクセサリーです。それは二重熱壁炉の上および底が装備され、精密、正確さおよび反復性の高い程度を提供します。この炉は最高温度1000°Cに達することができ、プロセス温度範囲は100°C〜900°C、有効量は475リットルです。LH/RH拡散装置は、システム温度の変動を最小限に抑え、タイトで均一な低放射率のヒーター環境を提供するように設計されています。この炉は、全金属製のオープンエンドのモジュラー設計で構成されており、ユーザーはユニットを簡単に監視、構成、検査することができます。電源供給、ガス供給ライン、データライン、その他のプロセスコンポーネントは完全に統合され、安全で均一な拡散コーティングプロセスを保証するために接続されています。炉は+/-50°Cの大きい温度調整範囲を備えており、より正確な結果を得るために作り付けのマイクロプロセッサによって正確に監視することができます。このマシンは、独立したホットウォールヒーターと上面を絶縁する保護反射器で設計されています。このヒーターは、すべての安全基準に従って設計され、最高品質に製造されています。H6350 LH/RHは、チップやウェーハダイなどの半導体デバイスの製造に最適で、製品の自動積み下ろしが装備されています。また、プロセスガスの数と互換性があり、375 W/cm2の典型的な積載率を備えています。ULVAC H6350 LH/RH拡散炉とアクセサリには、デジタルロジックコントローラと真空ベースの圧力容器が装備されており、利便性と生産出力のための信頼性の高い自動化された真空ツールを提供します。マルチプレックスデジタル発射アセットは、論理材料と自動圧力制御を最大限の効率で利用します。H6350 LH/RH拡散炉とアクセサリーは、信頼性と再現性に加えて、直感的で効率的な制御モデルで設計されており、プロセスの制御を強化しています。直感的なユーザーインターフェイスにより、簡単な設定と運用データへのアクセスが可能です。中央のプロセスコントローラにより、プロセスパラメータの効率的な監視と追跡が可能になり、安全で効果的な生産プロセスをユーザーに提供します。