中古 ASM MIR 3000 #9358639 を販売中

ASM MIR 3000拡散炉は、半導体産業のための汎用性の高いツールであり、複雑な3次元構造を含む高品質の半導体デバイスの製造を可能にします。この炉は、不動態化、埋め込み、拡散プロセスが可能であり、低温アニーリングおよび熱酸化のための理想的なプラットフォームを提供します。MIR 3000は、複数の場所と複数の基板で使用するために設計されており、大規模な生産や研究開発の用途に最適です。炉の中心は2つの電源の組合せによって加熱される電気抵抗要素から成り、1350°Cまで温度の精密な制御を可能にします。内部のるつぼは炉内の均一な熱分布を保障するためにグラファイトから製造され、炉の酸化抵抗は密で、気密な絶縁材によって達成されます。持ち上がるメカニズムおよび膨張メカニズムは優秀な信頼性および長期耐久性を提供します。ASM MIR 3000は、拡散プロセスをより簡単に、より速く、より信頼性の高いものにするユニークなアクセサリーを備えています。拡散バッチとシングルドーパントインジェクタにより、蒸着プロセスを正確に制御できます。一方、0。1°Cの精度を特徴とする冷却および加熱レートコントローラは、拡散プロセスの温度を変調するために使用されます。プログラマブルマシンドライバは、ユーザー定義のパラメータが一貫して適用されることを保証し、拡散プロセスの完全なトレーサビリティを容易にします。MIR 3000にはマルチゾーン変調（MZM）ユニットも含まれており、温度プロファイルを完全に制御することにより、高精度と安全性を提供します。洗練されたMZMは、1時間あたり最大900個のウェーハを並列処理することも可能で、高速生産アプリケーションに最適です。拡散炉には、ユーザーが簡単にプロセスパラメータを監視、調整、確認できる幅広いソフトウェアおよびサポートサービスが付属しています。操作ソフトウェアは、ユーザーが直感的なグラフィカルな方法で炉のパラメータを調整し、監視することができます、サポートシステムは、ユーザーが操作と安全に関する技術的なアドバイスにアクセスすることができます。さらに、自己診断ツールのホストは、それらが重要になる前に潜在的な問題を検出して警告する機能を備えています。全体として、ASM MIR 3000拡散炉とそのアクセサリの範囲は、複雑な半導体デバイスを製造するための効率的で信頼性の高い柔軟なツールをメーカーに提供します。MIR 3000は、温度とユーザー定義のパラメータを正確に制御することで、毎時数百万個のウェーハを完全な精度と再現性で処理できるため、高速生産と複雑な研究開発アプリケーションの両方に最適です。