中古 ASM A 600 #112365 を販売中
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ID: 112365
ウェーハサイズ: 8 "
LPCVD Furnaces
UHV Vertical furnaces
Cluster tool controller
Touch screen monitor
Keyboard with trackball
User interface
Hardware system:
Cluster platform module
Cluster platform pump module
CTC Computer cabinet
Process module
Process module pump cabinet
Reactor:
Reaction tube
Method: Single tube
Material: High-purity quartz
Heater element:
Heater wire material: Cantor wire, Φ 8 mm
Normal operating temperature: 500°C to 700°C
Maximum temperature: 800°C
Equal heat length, 12"
Temperature control: 500°C to 700°C ± 0.50°C
Control circuit: Cascade
Thermocouple:
(4) Zones
Inside: K-Type
Outside: K-Type with ceramic protective tube
Cooling method: Water-cooling 2 l/min
Wafer boat:
Wafer size, Φ 8"
Wafer quantity: 52 Wafer charges
Material: High-purity quartz
Operating system: Windows NT.
ASM A 600は、基板上に薄膜を堆積させるために特別に設計された拡散炉およびアクセサリーです。様々な厚みや形状のフィルムを堆積させることができる高温炉です。炉の容量は600 kWで、最大動作温度は1,500°Cです。熱衝撃および高温環境に対する優れた耐性を提供します。温度は0-1,500°Cの範囲と調整することができます。600は、堅牢で断熱性の高いスチールベース、トップマウントおよびダブルウォールチャンバー構造の組み合わせ、省エネ熱伝達システム、および強力なソリッドステート電子コントローラで構成されています。統合制御システムは、シンプルな2ボタンの開始/停止キーパッド、シームレスで簡単な操作のための事前にプログラムされたパラメータ、過熱安全限界、および温度ランプ/浸漬機能などのユーザーフレンドリーな機能を提供します。ASM A 600はまた、複数の基板ホルダー、単一/複数の基板ドライブ、オートフィーダ、クールダウン技術などの幅広いアクセサリを提供しています。基板ホルダと基板の広い範囲は、さまざまな温度設定でさまざまな基板を処理することができます。さらに、統合されたオートフィーダにより、基板の安全で効率的なローディングとアンロードが可能になります。また、ガスや液体冷却などのクールダウン技術を搭載し、高処理温度から低温への迅速な移行を実現しています。600の拡散炉には、緊急事態が発生した場合にすべての動作を直ちに停止し、炉を安全な温度にする専用の高速シャットダウンシステムも含まれています。また、高精度、安定性、信頼性を確保し、一貫性のある薄膜成膜を実現するために設計された機能を内蔵し、メンテナンスとサービスを容易に提供します。全体として、ASM A 600は、効率的で正確な薄膜蒸着を可能にする幅広いアクセサリを備えた、強力で信頼性の高い拡散炉です。反復可能で高品質な薄膜を必要とするアプリケーションに最適なソリューションです。
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