中古 ASM A 412 #9114074 を販売中
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販売された
ID: 9114074
ウェーハサイズ: 12"
LPCVD Vertical furnaces, 12"
Process: PH3 Doped poly/LPCVD
Software version: 6.80C
Heater type: MRL
Loader configuration, 4 or 5 loader: 4
Quartzware configuration
Outer tube: Quartz
Inner tube: Quartz
Boat: SiC boat
Boat fix ring/Cap quartz: Quartz
(6) Adiabatic plate
(1) SiH4, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, U/D/L
(1) O2, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, E
(1) PH3, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, U/D/L
Vacuum line configuration
Design: Original config
10 Torr Baratron model: MKS
10 Torr Baratron full scale setting: 10(F/S)
1000 Torr Baratron model: MKS
1000 Torr Baratron full scale setting: 1000(F/S)
ATM sensor model: MKS
Vent valve 1 (VV1) normally closed/open,plunger, diaphragm: Normally open,plunger
Check valve model: Fujikin
Check valve resistance pressure: 2.26 Kpa
Mainvalve type, Kitz or CKD: MKS
Slow valve, incorporated with mainvalve or separate(AV72,AV77): Separate (PV003)
Slow valve orifice size: 2.0mm (PV003)
Pressure range of vacuum gauge(Inficon Pirani gauge): 10T
Control table
Alarm watch/table setting
Temp (Low Alarm Limit(deg)/High Alarm Limit(deg)/Check Time(min))
U: 0.7/0.7/30S
CU: 0.7/0.7/30S
C: 0.7/0.7/30S
CL: 0.7/0.7/30S
L: 0.7/0.7/30S
Pressure (Low Alarm Limit(Torr)/High Alarm Limit(Torr)/Check Time(S)): 0.02/0.02/30S
MFC (Low Alarm Limit(%)/High Alarm Limit(%)/Check Time(S))
MFC1: N2: 2%/2%/10sec
MFC2: N2: 2%/2%/10sec
MFC3: N2: 2%/2%/10sec
MFC4: N2: 2%/2%/10sec
MFC5 SiH4: 2%/2%/10sec
MFC6: SiH4: 2%/2%/10sec
MFC7: SiH4: 2%/2%/10sec
MFC8: 1%O2/Ar: 1%/1%/10sec
MFC9: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC10: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC11: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC12: ClF3: 10%/10%/10sec
Transfer table
Wafer charge command (charge/discharge)
Side dummy
(5) Upper
(10) Lower
(100) Product
(5) Monitor
(105) Product & Monitor
Time
2nd Charge time(min): 0
Wafer cool time(min): 20min
Leak rate table
Base pressure low Limit(Torr): 1%
Base pressure High Limit(Torr): 1%
Leak Check check time(s): 60s
Leak limit(Torr): 1%
Retry Limit(count): 2
Loadlock settings
Loadlock configuration
O2 analyser model, NGK or Toray: PBI3.1 / PBI4.0
Process
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
Ready
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
Idle
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
L/A O2 limit (ppm): 10ppm.
ASM A 412は単一の地帯の実験室の拡散の炉および付属の付属品で、拡散プロセスで使用される高温処理機能を提供します。この拡散プロセスは、エレクトロニクス、ガラス、粉末冶金、航空宇宙製造など、さまざまな業界で使用されています。炉の設計は2つの主要な部品から成っています；ブラケットと囲炉裏。ブラケットの主な目的は、加熱素子を保持し、チャンバーに断熱材を提供することです。囲炉裏には、プロセス部分と、さまざまなセットアップの可能性を可能にする多数のアクセサリーがあります。炉は調節可能な温度調節器および手動上昇によって温度制御されます。ASM A412は、長さ20インチ、幅7。5インチ、深さ7。5インチの暖房室を備えています。チャンバーは、2000°F （1093°C）までの温度を長期間維持することができます。効率的な熱伝達と均一な加熱のために、チャンバーの長さに沿って動作し、電気的に電力を供給する単一の加熱コイルを備えています。加熱素子は、効率的な断熱を提供する構造に含まれています。これにより、熱損失が大幅に低減され、チャンバー全体でより一貫した温度が保証されます。412炉には電子温度コントローラが搭載されており、ユーザーはチャンバー内の温度レベルを正確に監視および調整することができます。コントローラは動作温度の範囲に設定することができ、設定された温度を維持するためにチャンバー内の温度を自動的に調整します。温度調節器はまた過熱限界、また作り付けのタイマーを含んでいます、従って炉は安全にそして効率的に使用することができます。メインオーブンチャンバーに加えて、A412には2つの追加のアクセサリーポートが含まれています。最初のポートは外部ガスや真空ラインを接続するために使用され、2番目のポートは材料の予熱用のチューブ炉を取り付けるために使用できます。ポートは、多くの異なるアクセサリの取り付け用に設計されており、炉を使用する際の柔軟性が向上します。使用に関しては、ASM A 412は手動および半自動操作のために設計されています。ワンボタンのプレス操作により、ASM A412を素早く簡単にセットアップでき、研究や生産に最適です。この炉は最小限の労力で設置・運用することができるため、拡散プロセスを迅速かつ効率的に完了することができます。全体として、A 412はシングルゾーンラボ拡散炉と付属アクセサリーであり、拡散プロセスで使用される高温処理能力を提供します。それは限られた寿命の保証を特色にし、産業、研究および教育施設で同様に使用するために理想的です。シンプルなデザイン、直感的なユーザーインターフェイス、信頼性の高いパフォーマンスにより、A412はあらゆる実験室拡散ニーズに最適です。
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