中古 RIGAKU Wafer X-300 #9145497 を販売中

RIGAKU Wafer X-300は、ハイエネルギー用途向けに設計された最先端のX線装置です。このシステムの主な目的は、原子スケールまたは近原子スケールで、ひずみ、ドーピング、テクスチャなどの材料の物理的性質を測定することです。このユニットは、高エネルギー源と大面積シンチレータを使用して、厚さ7nmまでのサンプルの高解像度画像を生成します。RIGAKU WAFERX 300の原料は100keVのX線の発電機で、広い範囲のX線の波長を作り出します。これにより、厚さ7nmまでの異種材料および構造の範囲を検査することができます。機械はX線の線量、ビーム整列および露出時間の精密な規則を提供する特別に設計されたコントロールパネルによって制御されます。ウェーハX-300画像検出器に使用されるシンチレータは、広い面積（260 x 215 cm）とカドミウム亜鉛テルル化物（CZT）材料で作られた波長選択シンチレータです。シンチレータは、最大100 keVのエネルギーを持つX線光子を検出することができます。この検出器はまた、高い量子効率を持ち、高エネルギーX線の検出効率は最大95％です。ソースおよび画像検出器に加えて、WAFERX 300には自動サンプル処理プラットフォームも含まれています。このプラットフォームは、ツールからのサンプルの自動ロードとアンロードを可能にします。このプラットフォームにはいくつかの専用サンプルマニピュレータもあり、手動での操作を必要とせずに外部サンプルの操作や取り扱いが可能です。アセットは柔軟に設計されており、個人のニーズに応じたカスタマイズが可能です。RIGAKUウェーハX-300は、さまざまな検出器、X線源、対物レンズ、蛍光体で構成することができます。さらに、データ取得、画像処理、分析、レポート作成にカスタマイズ可能なソフトウェアパッケージが含まれています。RIGAKU WAFERX 300は、様々な高エネルギー用途に適した高精度なX線モデルです。この装置の設計は、高エネルギー源、波長選択シンチレータ、自動サンプルの読み込みと操作など、さまざまな高度な機能を組み合わせています。ウェーハX-300は、厚さ7nmまでの異質なサンプルの高解像度画像を生成することができ、材料研究にとって貴重なツールとなります。