中古 HITACHI X-Strata 920 #293810485 を販売中

HITACHI X-Strata 920は、半導体製造から材料研究まで、さまざまな用途において、高性能な薄膜解析用に設計された先進的なX線装置です。最先端の技術を取り入れ、薄膜の組成、厚さ、構造を正確かつ正確に測定します。X-Strata 920の主な特徴の1つは、ナノメートルスケールの解像度で薄膜の詳細な解析を可能にする高解像度X線光学です。このシステムには高輝度のX線源が搭載されており、サンプルの最適な励起を保証し、分析の感度を高めます。これは、材料特性を特性化するためには正確な測定が不可欠である複雑な層構造や超薄膜の解析に特に重要です。HITACHI X-Strata 920には、幅広いサンプルサイズや形状の解析が可能な汎用性の高いサンプルステージも備えています。このユニットは、手動および自動サンプルローディングの両方をサポートしているため、複数のサンプルを1回の実行で迅速かつ効率的に分析できます。さらに、サンプルステージを傾けて回転させることで、さまざまなタイプの薄膜の測定ジオメトリを最適化し、信頼性と再現性の高い結果を保証します。分析機能の面では、X-Strata 920は薄膜の特性評価のための包括的な測定技術を提供しています。X線蛍光解析（XRF）を搭載し、高感度・高精度の元素組成解析が可能です。この技術は、薄膜中の不純物やドーパントの同定や、多層膜スタック内の個々の層の厚さの測定に特に役立ちます。また、HITACHI X-Strata 920には、X線反射率（XRR）と放牧発生率X線回折（GIXRD）機能が搭載されており、薄膜の構造や形態に関する貴重な情報を提供します。XRRは薄膜の密度と厚さを測定するために使用され、GIXRDは薄膜材料の結晶構造、格子パラメータ、および向きを分析するために使用されます。これらの技術はXRF解析を補完し、薄膜特性評価の包括的なアプローチを提供します。X-Strata 920は直感的なソフトウェアによって制御され、実験のセットアップ、データの取得、結果の分析にユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供します。このソフトウェアは、カスタマイズ可能な測定プロトコル、データ処理アルゴリズム、およびレポートツールを可能にし、分析を特定の研究または製造要件に合わせて簡単に調整できます。さらに、このツールには高度なデータビジュアライゼーションツールが装備されており、ユーザーは結果を明確かつ簡潔に解釈して視覚化することができます。全体的に、HITACHI X-Strata 920は、薄膜分析のための強力で汎用性の高いツールであり、高度な分析機能、高感度、および正確な測定を提供します。この装置は、研究室、品質管理環境、半導体製造施設で使用されるかどうかにかかわらず、薄膜材料の信頼性と正確な特性評価を提供し、研究者やエンジニアが材料特性と性能を最適化するのに役立ちます。