中古 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Zは、ウェーハ洗浄、エッチング、薄膜成膜など、さまざまな半導体関連プロセスに適したウェットステーションです。濡れたプロセスと乾燥したプロセスの両方に対応しているため、浅いトレンチ絶縁（STI）から化学機械研磨（CMP）までの用途で使用できます。TEL UW300Zは、工具や工程の自動スケジューリングを可能にする自動化された工具制御システムを備えています。TOKYO ELECTRON UW 300Zハウジングは堅牢なステンレス製で、プロセスチャンバーは直径300mmまでのウェーハに対応するロープロファイル設計です。また、ユニットの前面に配置された使いやすく直感的なタッチスクリーンディスプレイを備えており、プロセスを簡単に操作できます。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Zには、危険な化学物質や材料から保護するために、オペレータがプロセスチャンバーにアクセスできないようにするハウジングの安全ライトカーテンなどの安全機能も内蔵されています。プロセス化学の面では、UW 300Zは、HF（フッ化水素酸）、NaOH（水酸化ナトリウム）、KOH（水酸化カリウム）などのさまざまなウェットエッチングプロセスをサポートすることができます。ウェットエッチングプロセスは、ウェハの表面をきれいにし、その表面にナノ構造をパターン化するために使用することができます。また、TEL UW 300Zは、太陽電池に使用されるアルミニウムフィルムなどの薄膜をウェーハ表面に堆積させるためにも使用できます。オペレータの安全のため、TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Zにはオープンドアインターロックが装備されています。また、東京エレクトロンUW300Zは、汚染された空気が実験室の環境から適切に排出されるように排気フードを備えています。さらに、UW-300Zには、プロセスチャンバー内の粒子レベルを継続的に監視するオンボードのパーティクルモニタリングシステムも含まれており、リアルタイムのプロセスモニタリングが可能です。TOKYO ELECTRON UW 300 Zは、半導体アプリケーションに最適なウェットステーションソリューションです。軽量でありながら堅牢な設計で、作業者をラボで安全に保つ統合安全機能を備えた自動工具制御システムを提供しています。また、TEL UW 300 Zは様々なプロセス化学や薄膜成膜に対応しており、様々な産業や研究用途に最適です。