中古 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300 #9098652 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300
ID: 9098652
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Wet bench, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300は、半導体産業におけるプロセス開発とデバイス製造のウェットステーションです。このウェットステーションは、浅いトレンチ絶縁(STI)や浅いトレンチエッチング(STE)などの低圧プロセスで使用するために設計されています。また、3DICやMEMSなどの技術で使用される複雑な構造を生成することができます。TEL UW-300は、クォーツとステンレスで作られた独自の高温低圧プロセスチャンバー装置を特徴とし、チャンバー全体の温度変動を最小限に抑え、均一性を確保します。その先進的なプラズマシステムは、非常に効果的な低圧処理環境を作り出すように設計されており、エッチング処理に最適です。TOKYO ELECTRON UW-300には、プロセス制御と安全機能も多数搭載されています。これらには、温度、圧力、およびその他のプロセスパラメータを監視および調整する自動プロセスコントローラ、およびプロセスの完全性と安全性を維持する特許取得済みの放電抑制装置が含まれます。UW-300には、プロセスアプリケーションのための多目的な選択肢となる多くの機能があります。最大4つのプロセスチャンバーを収容でき、それぞれに異なるプロセスチャンバのガス供給ユニットと組み込みのガスマニホールドと真空ポンプを備えているため、さまざまなプロセスガスを一度に処理できます。プログラマブルコンピュータコントローラは、最大8種類のウェーハレシピとパラメータを処理することができ、複雑なプロセスや条件を迅速かつ簡単に設定できます。また、TEL/TOKYO ELECTRON UW-300は直感的なユーザーインターフェースで設計されており、ユーザーは現在のプロセス情報を確認し、必要に応じて調整することができます。この湿式ステーションは、メンテナンスと清掃が簡単にできるように設計されています。自動化されたウェーハローダー/アンローダーを備えており、ウェーハの手動ロードとアンロードの必要性を低減し、ウェーハ転送ロボットマシンを内蔵しているため、プロセス残留物のクリーンアップを迅速かつ簡単に行うことができます。また、TEL UW-300には耐薬品性スプレーノズルが内蔵されており、処理室や石英チューブを効果的に洗浄できます。TOKYO ELECTRON UW-300は、プロセス開発とデバイス製造のためのプロセスと安全機能を均一に提供するために設計された先進的なウェットステーションです。その汎用性と利便性は、半導体業界での使用に最適です。
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