中古 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353546 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Expediusは、ウェーハ製造、リソグラフィなどのプロセスを統合するための効率的で信頼性の高いプラットフォームを提供するウェットステーションです。プラットフォームは、温度安定性、プロセス制御、および改善された歩留まりを提供します。最新のウェットプロセスとレーザー技術を搭載したマルチユーザプラットフォームです。自動化されたステンシルローディング、アップリグのシェルター装置、改良された空気避難システムなど、包括的な機能と革新を提供します。TEL Expedius Wet Stationは、プロセス統合とパフォーマンス最適化のための安定した機械レベルのプラットフォームを提供するように設計されています。オープンアーキテクチャ設計では、8軸モーションユニットとサーボドライブマシンを使用して、正確で安定したモーションコントロールを実現しています。独自のドライブパターンと反復アルゴリズムは、乱流を最小限に抑えながら、ステーションが迅速かつスムーズに定常状態に到達できるように設計されています。また、処理中にウェットプラットフォーム上で均一で一定の温度を保証する高度な温度制御ツールを提供しています。TOKYO ELECTRON Expedius Wet Stationには、さまざまなプロセスツールと迅速かつ簡単に統合できる複数のローディング/アンロード機構が装備されています。その特別に設計された空気圧アセットと自動ステンシルローディング機能は、迅速かつ簡単なセットアップを保証します。また、最小限の粘着力で優れた解像度と精度を提供する高度なレーザーマーキングモデルを提供しています。自動化されたアップリグ保護装置は、ユーザーの介入を最小限に抑えながら、スピンコーティング、エッチング、ベーキングなどのプロセスを容易にします。さらに、Expedius Wet Stationは、ウェーハの製造、リソグラフィー、およびその他のプロセスに統合されたアプローチを提供することにより、プロセスの歩留まりを最大化し、コストを削減するように設計されています。ステーションの堅牢なレポート機能により、プロセスのパフォーマンスを包括的に分析できます。その高度なプロセス制御システムは、安定した反復可能な結果を保証します。さらに、その高度な空気避難ユニットは、低減された空気中の粒子汚染を保証します。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON Expedius Wet Stationは、プロセス統合とパフォーマンス最適化のための安定した信頼性の高いプラットフォームを提供する包括的なマルチユーザプラットフォームです。ステーションの高度な機能と革新は、ユーザーの介入を最小限に抑えて優れた歩留まりを保証します。高度なプロセスコントロールマシンは再現性と信頼性の高い結果を保証し、空気避難ツールは粒子の汚染を低減します。全体として、ステーションはプロセス収率を最大化し、コストを最小限に抑える信頼性の高い効率的なプラットフォームを提供します。