中古 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius+ #9253879 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius+は、半導体アセンブリプロセスにおけるデバイス処理を最適化する高度な機能を備えたウェットステーションです。ウェットステーションは、デバイス処理に最適な条件を提供するように設計されています。これは、プラズマチャンバーにドライガスとウェットガスを供給するデュアルチャンバーの大気ガス供給装置を介して行われます。ドライガスシステムは、流量を制御するマスフローコントローラ（MFC）と、チャンバ内部の実際の圧力を測定するデジタル圧力トランスデューサ（DPT）を備えています。また、チャンバー全体のガス組成を測定し、乾燥ガス中の粒子汚染を補正するガスモニターも備えています。ウェットガスユニットでは、MFCを使用して流量を制御し、DPTを使用してチャンバー圧力を測定します。湿度モニターを使用してチャンバー内の湿度を測定し、最適な湿式加工条件を確保します。ウェットステーションはまた、ウェットフィルムの成膜のためにキャリブレーションされ、成膜速度を微調整します。ウェットステーションも広い温度範囲を利用しています。それは-50°Cおよび250°C。の高い温度で作動できます。この広範囲により、堆積速度の精密な微調整が可能になり、デバイス処理の可能性が広がります。この範囲はまた人員および装置の安全を保障します。ウェットステーションには自動排気装置も備えており、使用済み化合物や使用済み化合物を安全かつ効率的に避難させることができます。このツールは、電動シャッターと比類のない速度で開閉することができる迅速な換気装置を備えています。最後に、ウェットステーションには高度なプロセスアルゴリズムが装備されています。このアルゴリズムは、ウェットパラメータとドライパラメータの両方を最適に統合するように設計されており、デバイス処理の信頼性の高い制御を提供します。全体として、TEL Expedius+は、半導体アセンブリプロセスでデバイス処理を最適化する高度な機能を備えたウェットステーションです。幅広い動作温度、自動化された排気資産、高度なプロセスアルゴリズムにより、このウェットステーションはデバイス処理の信頼性の高い制御を提供します。