中古 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9038418 を販売中

ID: 9038418
Wet benches, 12" Basic config: Bath configuration: LD-FIMS-SPM-HQDR-SC1-HQDR-SC1-HQDR-FRD-FRD Load/unload port: 2 (common) Wafer size: 300 mm Batch Size: 50 Wafer Software: SECS2 Mecha: Motor, servo motor (3) Robots Chuck: Quartz SPM Bath: Matrial Quartz Heater: 6 kw Filter: 30 nm Chemical: H2SO4,H2O2 Wafer Guide: Quartz QDR Btah: Material Quartz Heater: None Filter: None Chemical: DIW.Hot DIW Wafer Guide: Quartz SC1 Bath: Material Quarz Heater: 6 kw Filter: 30 nm Chemical: NH4OH,H2O2 Wafer guide: Quartz HQDR Bath: Material Quartz Heater: None Filter: None Chemical DIW/HOT DIW FRD Bath: Material PVDF Chemical IPA, DIW Wafter Guide: PVDF 2006 vintage..
TEL/TOKYO ELECTRON Expediusは、半導体製造・開発のウェットステーションです。小規模な半導体部品やウェーハの加工に対応する汎用性と低コストのソリューションです。低コスト加工、薄膜成膜、リソグラフィーイメージング、エッチング、化学蒸着(CVD)、レジスト加工など幅広い用途に使用できるように設計されています。TEL Expediusは堅牢なハードウェアプラットフォームとソフトウェア定義のコントロールを使用して、優れたパフォーマンスとスループットを実現します。トーキョーエレクトロンExpediusは、正確なウェーハ処理のためのマイクロメートル精密ツールホルダー、デジタルイメージング装置(DIS)、イメージングおよび計測のための走査型電子顕微鏡(SEM)、 FEM光学デジタルイメージングシステム(ODIX)を搭載しています。また、高出力の可変周波数無線周波数(RF)発電機、高出力熱源、高精度ウェーハ加工用の高速X/Yモーションステージ、および精密粉末分注ツールも搭載しています。このアセットには、プロセス制御、プロセス監視、プロセス最適化のためのSDTM-2000プロセス自動化ソフトウェアも搭載されています。このソフトウェアは、ユーザーがウェーハからウェーハまで一貫した結果を得るために、ガス圧力、ガス流量、温度などのプロセスパラメータを監視および制御できるようにすることで、全体的なモデルのパフォーマンスを最適化するために設計されています。また、経過時間レコーダー、イベントカウンター、プロセスログなどの高度なプロセス管理機能も備えています。これらの機能により、プロセスの正確な追跡と最適化が可能になります。さらに、この装置はサンプルの積み下ろしを独立してサポートし、スループットを向上させ、より高いレベルの自動化を可能にします。TEL/TOKYO ELECTRON Expediusは、優れた性能、精度、再現性、スケーラビリティを提供し、半導体業界の厳しい要件を満たすように設計されています。小規模な半導体コンポーネントやウェーハの加工に費用対効果の高いソリューションを提供し、業界のあらゆるウェットステーション用途に最適です。
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