中古 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293666975 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 293666975
Wet bench.
TEL/TOKYO ELECTRON Expediusは、半導体加工用に設計されたウェットステーションです。シングルウェーハ処理用の先進的な装置であり、バッチ処理と連続処理の両方が可能です。このシステムは、最大6インチのウェーハを処理するように設計されており、300 mmと200 mmのウェーハの両方と互換性があります。TEL Expediusウェットステーションは、2つの独立した温度管理されたウェットバスで構成されています。浴槽は自動化されており、ユーザーの要件に基づいて一連の処理手順を実行するようにプログラムすることができます。浴槽は200°Cまで加熱することができ、両方とも温度測定システムを備えており、プロセス全体で一貫した温度を確保しています。ウェットバスとは別に、ウェットステーションにはケミカルハンドリングユニットが内蔵されており、ケミカルストレージとディスペンシングの両方を担当しています。これは、材料コストを削減し、生産性を向上させるのに役立ちます。また、有害化学物質と非有害化学物質の両方を取り扱うことができるため、幅広いプロセス用途に適しています。TOKYO ELECTRON EXPEDIUSは、ウェーハ加工プロセスを自動化し、優れた品質管理を実現します。ウェットステーションに取り付けられた高解像度カメラは、処理中のウェーハのリアルタイム画像を提供します。このマシンは、プロセス中に発生する可能性のある異常を検出し、ユーザーに通知することができるだけでなく、プロセスの有効性を監視する手段を提供します。また、周囲環境やプロセスチャンバーの汚染を防ぐ防水ツールなどの重要な安全機能も含まれています。このアセットには、処理中に一貫した品質を確保するための高度な真空システムも含まれています。真空モデルは、エッチング工程中の均一性を確保し、プロセス要件に基づいてさまざまなレベルの真空を提供することができます。さらに、この装置に内蔵されているロードロックシステムは、ウェーハ配置エラーによるプロセス障害を最小限に抑えるのに役立ちます。最後に、Expediusウェットステーションは、使いやすさとメンテナンス性を念頭に設計されています。ユーザーインターフェイスは直感的で操作が簡単で、モジュール式の設計により、必要に応じて簡単なメンテナンスと修理が可能です。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON Expediusは、さまざまな半導体アプリケーションで効果的で信頼性の高いウエハー処理用に設計された先進的なウェットステーションです。高度な画像認識と真空システムにより、プロセスの制御を向上させることができます。さらに、ユーザーインターフェイスとモジュール設計により、操作とメンテナンスが容易になります。そのため、TEL Expediusウェットステーションは、あらゆる半導体加工アプリケーションに最適です。
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