中古 DNS / DAINIPPON SU-3200 #293828146 を販売中
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ID: 293828146
ウェーハサイズ: 3"
ヴィンテージ: 2014
Wafer cleaning system, 3"
(8) Chambers
(4) Load port
Chemical: DHF, NH4OH ,H2O2 ,IPA ,03
Overhead Transport System (OHT)
SINFONIA TECHNOLOGY SELOP12F25-S7DB033F
Double robot arms
Process chamber unit:
Tower-1 : MPC-2,3
Tower-2 : MPC-4,5,6
Tower-3 : MPC-7,8,9
Chemical Cabinet:
SC-1
DHF
O3
CO2
CDA N2
DIW
PCW
FOUP Load port:
(4) Load port
FOUP Type: No N2 Purge
SINFONIA TECH NOLOGY
SELOP12F25-S7DB033F
30D65K-C212 Servo pack
Double robot arms
Material: Ceramic
KAWASAKI
3NT 420B-B029
NT4203452
XU-ACT153L-H01
YASUKAWA ELECTRIC CORP
30D65K-C212 Servo pack
Material: Ceramic
KAWASAKI
3SD940S-A006
SD9400150
E FLOW
e Flow SD90B-R11-F-VB
MPC chamber: 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9
Scan nozzle - 1:
Nozzle - 1: DHF (LFC), DIW(LFC)
Suck back drain
Nozzle - 2: O3 (MN), CO2W(MN)
Suck back drain
Nozzle - 3: IPA
Suck back drain
1 Upper nozzle N2 Purge
1 Lower nozzle N2 Purge
1 and 2 Nozzle rinse
Scan nozzle - 2:
Nozzle - 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Suck back drain
Nano spray 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Nano spray N2
Suck back drain
2 Upper nozzle N2 Purge
2 Lower nozzle N2 Purge
Back side nozzle:
Nozzle chemical dispense: DHF, SC-1, O3 ,CO2
Suck back Drain
Dispense
Fixed nozzle:
Nozzle rinse
Chuck pin rinse
Spin base rinse
Fixed cup
Exhaust duct rinse
Shutter N2 Blow
Chamber wall rinse
Shutter drive: Air cylinder
Chemical cabinet (SC-1):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-20MA
Pump damper: Pillar / A20S013 / 14722-3
Temp controller: DNS Special
Heating exchange: DNS Special
Temp range: 20 ~ 80°C
(4) Flow meter
(2) Houshing filter
Chemical cabinet (DHF):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-40MA
Pump damper: A40S018 / 14610-3
(2) Houshing filter
(4) Flow meter
Temp controller: KOMATSU
Heating exchange: KOMATSU
Temp range: 20 ~ 30°C
O3 Cabinet (LIQUOZON):
ASTeX GmbH PN: 14-0038-P00AA1007
DIO3 Outlet pressure: 14 - 36 psi (1.0 ~ 2.5 bar)
O2 Inlet pressure: 65 - 110 psi (4.5 ~ 7.6 bar)
CO2 Inlet pressure: 73 - 36 psi (5.0 ~ 7.6 bar)
UPW Inlet pressure: 48 - 73 psi (3.3 ~ 5.0 bar)
CDA Inlet pressure: 75 - 119 psi (5.2 ~ 8.2 bar)
Main cooling water pressure: 29 psi (2.0 bar)
Max cool water press: 73 psi (5.0 bar)
Missing parts:
Spin base: Material, Spin motor, Revolution, Acceleration, Revolution accuracy
Chuck: Chuck drive, Material, Wafer detection
Main H/D
Spin base (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC board assy (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC flow meter switch (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
CR ROBOT
INDEX ROBOT Servo drive
MPC - 2 (Chemical tray)
Power supply: Phase 3, 208V, 39kVA, 108A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
UPS Power supply: Phase 3, 208V, 20VA, 56A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
Power supply (4 - wire): 3/PE-200~230V ±10% 14A 50/60Hz
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3200は、洗浄、エッチング、基板開発の半導体製造プロセスで使用される最先端のウェットステーションです。この汎用性の高いツールは、単一のプラットフォームで様々な機能を組み合わせ、ウェーハの処理において高精度と効率を提供します。高度な機能と自動化された機能を備えたDNS SU3200は、集積回路やその他の半導体デバイスの製造において重要なツールです。DAINIPPON SU 3200の中核には、1つのユニットに複数のプロセス工程を収容する設計があります。このウェットステーションには、化学分注、洗浄、乾燥、スピンコーティングなど、さまざまなモジュールが組み込まれており、異なる処理ステップ間のシームレスな遷移を可能にします。DNS/DAINIPPON SU3200のモジュール設計により、異なる半導体製造プロセスの特定の要件を満たすためのカスタマイズと柔軟性が可能になります。ダイニッポンSU3200の特徴の一つは、プロセスパラメータを正確に制御することです。この装置には、温度、圧力、流量、タイミングなどの重要なパラメータを監視および調整する高度なセンサーとコントローラが装備されています。このレベルの制御により、均一で再現性のある処理結果が保証されます。クリーニング機能の面では、SU3200はウェーハ表面から汚染物質を除去するのに優れています。このシステムは、プロセスの要件に応じて、メガソニッククリーニング、ブラシクリーニング、ケミカルエッチングなどのさまざまな洗浄技術を実行できます。また、DNS/DAINIPPON SU 3200には、ウェハ表面から洗浄剤や残留物を完全に除去するために、流量を制御した複数の洗浄バスがあります。DNS SU-3200は、パターニングやデバイス製造のエッチング処理もサポートしています。ウェットエッチングとドライエッチングの両方の処理が可能で、半導体基板に必要なパターンを作成する際の汎用性を提供します。エッチング濃度、温度、露出時間を正確に制御することで、ウェーハ表面を正確かつ均一にエッチングできます。SU 3200のもう一つの重要な機能は、フォトレジストパターニングの開発プロセスを実行することです。ウェーハ表面にフォトレジスト材料を分配し、均一な層を実現するためにスピンコートし、特殊な化学物質を使用してパターンを開発することができます。この機能は、高解像度で精度の高い半導体デバイスの特徴を定義するために重要です。DAINIPPON SU-3200は、加工能力に加え、信頼性と使いやすさを追求して設計されています。このツールは、プログラミングと監視プロセスのためのユーザーフレンドリーなインターフェース、ならびに資産の維持とトラブルシューティングのための診断ツールを備えています。堅牢な構造と品質のコンポーネントにより、長期的なパフォーマンスとダウンタイムを最小限に抑え、半導体製造設備の全体的な生産性に貢献します。結論として、ウェットステーションSU-3200、半導体製造プロセスのための汎用性と効率的なツールです。DNS SU 3200は、洗浄、エッチング、開発などの高度な機能を備えており、高品質の半導体デバイスの製造において重要な役割を果たしています。精密制御、柔軟性、信頼性により、最新の半導体製造設備において貴重な資産となっています。
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