中古 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293813602 を販売中

DNS / DAINIPPON SU-3100
ID: 293813602
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2014
Wafer cleaning system, 12" Indexer robot (4) FOUP Carriers (6) Auxiliary units Front PF: Shuttle unit Reverse unit TOWER1: MPC1/2 TOWER2: MPC3/4 Rear PF: Center robot TOWER3: MPC5/6 TOWER4: MPC7/8 Side Cabinet: DDI SC Chemical supply system Chemical type: NH4OH, H2O2, HCL HT‑H2SO4 SC Chemical supply system External cabinet: (2) DHF CC Chemical supply systems, mixing rate: HF49% : DIW = 1–50 : 500 (2) dSPM+ CC Chemical supply systems, circulation temperature: RT–50°C SPM Drain cooling system NanoA Pump unit IPA CC Supply system E‑Flow unit Main power box Power supply 2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100ウェットステーションは、半導体製造工程に特化した洗浄装置です。さまざまな技術と精密配送を組み合わせ、高精度な洗浄性能を実現したウェットステーションです。ウエハの上下検査が可能な高度なビジョンシステムを搭載し、ユーザーのニーズに合わせてカスタマイズできる手動・自動化されたステーション機能を搭載しています。DNS SU-3100は、ソースチャンバー、ポリマー洗浄チャンバー、ガス注入チャンバー、洗浄チャンバーを備えたメインユニットで構成されています。ソースチャンバーは、洗浄目的でウェーハに均一な化学物質の流れを提供するように設計されています。ポリマークリーニングチャンバーは、高度なフィルターを使用してウェーハ表面に到達する前に固体を分離し、表面が清潔で有機汚染から解放されるようにします。ガスインジェクトチャンバーは、洗浄工程中に反応性ガスを追加し、処理段階ごとに化学物質を最適化します。洗浄室には、ウェーハ全体の化学物質の流れを制御するプログラム可能なバルブも装備されています。これは、複数の場所で複数のウェーハをクリーニングする際に、より大きな制御と精度を可能にする高度な機能です。これらのコンポーネントとユニット操作の組み合わせにより、プロセスの劣化を最小限に抑えた高レベルのパフォーマンスを実現します。DAINIPPON SU 3100には、このマシンの汎用性と効率を高めるためのさまざまな補助装置も含まれています。これには、化学スプラッシュを低減するための化学カーテンと、汚染のリスクを最小限に抑えるためのマルチベンチュリーパージツールが含まれます。また、粒子移動のリスクを排除する高速乾燥機能や、ウェハ表面を素早く効果的に乾燥させるターボフラッシュ乾燥アセットもあります。DNS SU 3100は、フルオートメーション機能も備えています。これにより、ユーザーはジョブをプログラミングし、プロセスパラメータをリモートおよび即時に調整できます。これにより、より迅速かつ正確なモデル操作が可能になり、最小限の間隔で最適なパフォーマンスが保証されます。さらに、SU 3100には高度な監視およびフィードバックシステムが含まれており、最大の結果を得るためにリアルタイムのプロセス調整を行うことができます。全体として、大日本ウェットステーションSU-3100、半導体製造プロセスの要求に応えるために設計された強力で汎用性の高い機器です。幅広い機能、高度な精度の提供、フルオートメーションにより、このシステムはクラス最高レベルの性能と精度を達成することができます。
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