中古 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293627839 を販売中
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ID: 293627839
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Wafer cleaning system, 12"
(8) Chambers
(4) Load ports
Powerbox
Densimeter
E-Flow
DVR
Chemical supply: HF, H2SO4, H2O2
Nozzle:
Chemical (Spin 1-8)
Side rinse
E-Flow (Spin 1-8 and front)
Nano spray
Rinse back rinse
UMC Controller
Index R IDA
(2) CR Stages
Spin unit:
Left: 5, 6, 7, 8
Right: 1, 2, 3, 4
IR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
Arm Y-Axis servo-motor
OARM X, Y-Axis stepping-motor
CR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
ARM Y,Z AC Servo-motor
Missing:
Hard Disk Drive (HDD)
Fire suppression
DI Resistivity sensor: AS
Flow meter sensor: RK
Power supply: 220 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Full Load: 32kVA, 88A, 60 Hz
3 Wires with GND/PE
Breaker rate: 110A
SCCR: 10kA
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100は、反応イオンエッチング（RIE）技術と化学機械研磨（CMP）技術を活用し、半導体材料を使用した製品を製造するウェット加工ステーションです。ウェットステーションは、表面粗さを最小限に抑えた高品質の基板を得るために、精密かつ再現性の高いエッチングおよび研磨プロセスを可能にします。ウェットステーションは、内部真空装置、イオン源、抵抗発熱体、メカニカルウェハキャリア、およびプロセスガスの配列を備えた耐薬品性ステンレススチールチャンバーで構成されています。チャンバーには、他の真空システムやプロセスコンポーネントと接続するための多数のポートプラグも装備されています。チャンバーには、ウェーハを周囲の大気圧にさらすことなく、チャンバー内とチャンバー外に転送するためのロードロックも含まれています。イオン源は、プロセスガスを活性化し、制御可能な密度と組成を持つプラズマを生成するために使用されます。加熱体はエッチング中の圧力と温度を制御するために使用され、メカニカルウェーハキャリアはプロセス全体にわたってウェーハを確実に保持します。このチャンバーには、プロセスガスを排出するための高真空ポンプと、エッチング反応の副産物を排出するための通気口があります。安全で清潔な作業環境を維持するために、ウェットステーションにはエアスクラブシステムと自動窒素搬送ユニットが装備されています。エアスクラブマシンは、着信空気から微粒子やその他の汚染物質を除去し、窒素供給ツールはチャンバー内の一貫したプロセス雰囲気を維持します。ウェットステーションは、高精度のエッチング機能と高度なプロセスモニタリングを提供し、非常に高い精度と再現性を備えた製品の生産を可能にします。金属、酸化物、ポリマー、化合物など、さまざまな種類の材料を処理することができます。さらに、モジュラーアーキテクチャで設計されており、お客様のニーズに合わせて簡単にアップグレードできます。
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