中古 DNS / DAINIPPON SU-3000 #293809737 を販売中
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ID: 293809737
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Wafer cleaner, 12"
(4) Chambers
(4) Chemical cabinets: NH4OH, BHF, IPA
(2) Handling systems
Overhead transport system
Indexer unit
(4) Load ports
YASUKAWA XU-ACT153L-B01 ID/R Unit
Transfer unit
YASUKAWA XU-RC615L-A12 CR Unit
Fan Filter unit (FFU):
Type: 2T-445950GGE-SWALY
Material: Fluoridation resin filter
Capacity: 99.995 <% / 0.1 μm
Range: 0~0.4 m/sec and 0~0.6 m/sec
Process chamber: (4) MPC Chambers
Shield plate:
Shield plate IPA Dispense: IPA
Shield plate DIW Dispense: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: IPA
Scan nozzle 1:
Chemical 2 Dispense: DHF
DIW Dispense: CO2 Water
Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Port 20 DHF reclaim line valve open: DHF
Port 21 ACID drain line valve close: Acid
Port 20 N2 Purge
Chemical 2 Nozzle drain: DHF
DIW and chemical 4 nozzle drain: CO2 Water and bulk HF
Scan nozzle 2:
DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray: N2
Nano spray DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray chemical 3 dispense: SC-1
Nano nozzle 2 chemical 3 dispense: SC-1
Nano spray composite: N2 and CO2 Water
Nano spray composite: N2 and SC-1
Scan nozzle 2 chemical 3 nozzle drain: SC-1
Backside nozzle:
Chemical 2 dispense: DHF
Chemical 3 dispense: SC-1
DIW Dispense: CO2 Water
Backside nozzle 5 Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Backside umbrella nozzle dispense: CO2 Water
Backside nozzle pre dispense
Backside nozzle drain
Fixed nozzle:
Chuck rinse nozzle dispense: CO2 Water
Spin base rinse nozzle dispense: CO2 Water
Shield plate surface rinse nozzle Dispense: CO2 Water
Fixed nozzle dispense: CO2 Water
Spin base:
Material: PCTFE
Spin motor: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 RPM (at 3000 RPM)
Chuck:
Chuck drive: Pulse motor
Material: PCTFE, ETFE
Wafer detection: Detection by chuck pins
Shield plate:
Material: HT-PVC
Revolution drive: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 rpm (at 3000 RPM)
Up / Down shift: AC Servo motor
Minimum distance to the wafer surface: 0.3 mm
Splash guard:
Chemical collection structure
Material: PTFE
Up / Down shift: AC Servo motor
Shutter:
Drive: Air cylinder
(2) Chemical cabinets
Temperature control of low temperature
Chemical used: HF, NH4OH, IPA
Chemical mixing ratio: Premix
Range of temperature control: 20°C~35°C
Chemical filter: Chemlock housing, 0.1 μm
Circulation pump: Pillar
KOMATSU NES-2123-7 Circulator
KOMATSU GRS-612 Temperature controller
E-Flow:
Module: SD16L-24S W
HORIBA OE-960CE Resistivity meter
Resistivity sensor: ESD-001C-T
Sensor cable: CK-10M
Sensor holder: EFA-30
Relay: MY2N-CR DC24V
Fire extinguisher controller: Auto pulse 542R
2008 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3000ウェットステーションは、エンジニアリングおよび製造業界のさまざまな用途に使用される、高効率で信頼性の高いウェットエッチング装置です。パルスHF/HClエッチングチャンバー、2つの独立したワークタンク、高圧流体供給システム、および材料の積み込みと取り扱いを改善するための統合パレットユニットを装備しています。DNS SU-3000のユニークな設計は、ユーザーに安全性の向上、エッチング結果の品質の向上、および廃棄物の大幅な削減を提供します。HF/HClエッチングチャンバーは、エッチング制御と精度の正確なレベルを提供するように設計されています。部屋の内部は腐食から保護し、一貫したエッチング・プロセスを保障するために防蝕セラミック材料と上塗を施してあります。アナグリフ表面は水路形状と縦方向の放物線で構築されており、ユーザーに均一なエッチング深度と極めて精度の高い表面仕上げを提供します。DAINIPPON SU 3000は、HF/HClエッチングチャンバーに加えて、2つの独立したワークタンクを備えており、それぞれが異なるエッチング処理をサポートしています。各タンクの設計により、それらの中に置かれた材料を簡単に移動させることができ、迅速な方法交換と化学混合を可能にします。各タンクには、最大圧力50 bar (725 psi)のHF/HClソリューションを提供するためのペリスタルポンプと圧力マシンが装備されています。DNS SU 3000には、材料の読み込みと取り扱いを改善するための統合パレットツールも含まれています。パレットは人間工学的にエッチング材料の容易なローディングおよび荷を下すことを可能にするように設計されています。この資産は、ダウンタイムを大幅に削減し、他のウェットエッチングシステムよりも短い期間ではるかに多くのプロセスを実行するように設計されています。全体的SU-3000ウェットステーションは、さまざまなアプリケーションで使用するのに適した最上位のエッチングモデルです。この装置は、安全性の向上、エッチング結果の品質の向上、および廃棄物の大幅な削減を提供します。厳格な品質管理基準に裏付けられ、信頼性と精度において最高水準を満たしています。
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