中古 DNS / DAINIPPON SU-3000 #293809737 を販売中

ID: 293809737
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Wafer cleaner, 12" (4) Chambers (4) Chemical cabinets: NH4OH, BHF, IPA (2) Handling systems Overhead transport system Indexer unit (4) Load ports YASUKAWA XU-ACT153L-B01 ID/R Unit Transfer unit YASUKAWA XU-RC615L-A12 CR Unit Fan Filter unit (FFU): Type: 2T-445950GGE-SWALY Material: Fluoridation resin filter Capacity: 99.995 <% / 0.1 μm Range: 0~0.4 m/sec and 0~0.6 m/sec Process chamber: (4) MPC Chambers Shield plate: Shield plate IPA Dispense: IPA Shield plate DIW Dispense: CO2 Water Shield plate nozzle drain: CO2 Water Shield plate nozzle drain: IPA Scan nozzle 1: Chemical 2 Dispense: DHF DIW Dispense: CO2 Water Chemical 4 Dispense: Bulk HF Port 20 DHF reclaim line valve open: DHF Port 21 ACID drain line valve close: Acid Port 20 N2 Purge Chemical 2 Nozzle drain: DHF DIW and chemical 4 nozzle drain: CO2 Water and bulk HF Scan nozzle 2: DIW Dispense: CO2 Water Nano spray: N2 Nano spray DIW Dispense: CO2 Water Nano spray chemical 3 dispense: SC-1 Nano nozzle 2 chemical 3 dispense: SC-1 Nano spray composite: N2 and CO2 Water Nano spray composite: N2 and SC-1 Scan nozzle 2 chemical 3 nozzle drain: SC-1 Backside nozzle: Chemical 2 dispense: DHF Chemical 3 dispense: SC-1 DIW Dispense: CO2 Water Backside nozzle 5 Chemical 4 Dispense: Bulk HF Backside umbrella nozzle dispense: CO2 Water Backside nozzle pre dispense Backside nozzle drain Fixed nozzle: Chuck rinse nozzle dispense: CO2 Water Spin base rinse nozzle dispense: CO2 Water Shield plate surface rinse nozzle Dispense: CO2 Water Fixed nozzle dispense: CO2 Water Spin base: Material: PCTFE Spin motor: AC Servo motor Maximum revolution: 3000 RPM Maximum acceleration: 1000 RPM/sec Revolution accuracy: ±3 RPM (at 3000 RPM) Chuck: Chuck drive: Pulse motor Material: PCTFE, ETFE Wafer detection: Detection by chuck pins Shield plate: Material: HT-PVC Revolution drive: AC Servo motor Maximum revolution: 3000 RPM Maximum acceleration: 1000 RPM/sec Revolution accuracy: ±3 rpm (at 3000 RPM) Up / Down shift: AC Servo motor Minimum distance to the wafer surface: 0.3 mm Splash guard: Chemical collection structure Material: PTFE Up / Down shift: AC Servo motor Shutter: Drive: Air cylinder (2) Chemical cabinets Temperature control of low temperature Chemical used: HF, NH4OH, IPA Chemical mixing ratio: Premix Range of temperature control: 20°C~35°C Chemical filter: Chemlock housing, 0.1 μm Circulation pump: Pillar KOMATSU NES-2123-7 Circulator KOMATSU GRS-612 Temperature controller E-Flow: Module: SD16L-24S W HORIBA OE-960CE Resistivity meter Resistivity sensor: ESD-001C-T Sensor cable: CK-10M Sensor holder: EFA-30 Relay: MY2N-CR DC24V Fire extinguisher controller: Auto pulse 542R 2008 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3000ウェットステーションは、エンジニアリングおよび製造業界のさまざまな用途に使用される、高効率で信頼性の高いウェットエッチング装置です。パルスHF/HClエッチングチャンバー、2つの独立したワークタンク、高圧流体供給システム、および材料の積み込みと取り扱いを改善するための統合パレットユニットを装備しています。DNS SU-3000のユニークな設計は、ユーザーに安全性の向上、エッチング結果の品質の向上、および廃棄物の大幅な削減を提供します。HF/HClエッチングチャンバーは、エッチング制御と精度の正確なレベルを提供するように設計されています。部屋の内部は腐食から保護し、一貫したエッチング・プロセスを保障するために防蝕セラミック材料と上塗を施してあります。アナグリフ表面は水路形状と縦方向の放物線で構築されており、ユーザーに均一なエッチング深度と極めて精度の高い表面仕上げを提供します。DAINIPPON SU 3000は、HF/HClエッチングチャンバーに加えて、2つの独立したワークタンクを備えており、それぞれが異なるエッチング処理をサポートしています。各タンクの設計により、それらの中に置かれた材料を簡単に移動させることができ、迅速な方法交換と化学混合を可能にします。各タンクには、最大圧力50 bar (725 psi)のHF/HClソリューションを提供するためのペリスタルポンプと圧力マシンが装備されています。DNS SU 3000には、材料の読み込みと取り扱いを改善するための統合パレットツールも含まれています。パレットは人間工学的にエッチング材料の容易なローディングおよび荷を下すことを可能にするように設計されています。この資産は、ダウンタイムを大幅に削減し、他のウェットエッチングシステムよりも短い期間ではるかに多くのプロセスを実行するように設計されています。全体的SU-3000ウェットステーションは、さまざまなアプリケーションで使用するのに適した最上位のエッチングモデルです。この装置は、安全性の向上、エッチング結果の品質の向上、および廃棄物の大幅な削減を提供します。厳格な品質管理基準に裏付けられ、信頼性と精度において最高水準を満たしています。
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