中古 DNS / DAINIPPON / SCREEN SU-3200 #293828146 を販売中
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ID: 293828146
ウェーハサイズ: 3"
ヴィンテージ: 2014
Wafer cleaning system, 3"
(8) Chambers
(4) Load port
Chemical: DHF, NH4OH ,H2O2 ,IPA ,03
Overhead Transport System (OHT)
SINFONIA TECHNOLOGY SELOP12F25-S7DB033F
Double robot arms
Process chamber unit:
Tower-1 : MPC-2,3
Tower-2 : MPC-4,5,6
Tower-3 : MPC-7,8,9
Chemical Cabinet:
SC-1
DHF
O3
CO2
CDA N2
DIW
PCW
FOUP Load port:
(4) Load port
FOUP Type: No N2 Purge
SINFONIA TECH NOLOGY
SELOP12F25-S7DB033F
30D65K-C212 Servo pack
Double robot arms
Material: Ceramic
KAWASAKI
3NT 420B-B029
NT4203452
XU-ACT153L-H01
YASUKAWA ELECTRIC CORP
30D65K-C212 Servo pack
Material: Ceramic
KAWASAKI
3SD940S-A006
SD9400150
E FLOW
e Flow SD90B-R11-F-VB
MPC chamber: 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9
Scan nozzle - 1:
Nozzle - 1: DHF (LFC), DIW(LFC)
Suck back drain
Nozzle - 2: O3 (MN), CO2W(MN)
Suck back drain
Nozzle - 3: IPA
Suck back drain
1 Upper nozzle N2 Purge
1 Lower nozzle N2 Purge
1 and 2 Nozzle rinse
Scan nozzle - 2:
Nozzle - 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Suck back drain
Nano spray 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Nano spray N2
Suck back drain
2 Upper nozzle N2 Purge
2 Lower nozzle N2 Purge
Back side nozzle:
Nozzle chemical dispense: DHF, SC-1, O3 ,CO2
Suck back Drain
Dispense
Fixed nozzle:
Nozzle rinse
Chuck pin rinse
Spin base rinse
Fixed cup
Exhaust duct rinse
Shutter N2 Blow
Chamber wall rinse
Shutter drive: Air cylinder
Chemical cabinet (SC-1):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-20MA
Pump damper: Pillar / A20S013 / 14722-3
Temp controller: DNS Special
Heating exchange: DNS Special
Temp range: 20 ~ 80°C
(4) Flow meter
(2) Houshing filter
Chemical cabinet (DHF):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-40MA
Pump damper: A40S018 / 14610-3
(2) Houshing filter
(4) Flow meter
Temp controller: KOMATSU
Heating exchange: KOMATSU
Temp range: 20 ~ 30°C
O3 Cabinet (LIQUOZON):
ASTeX GmbH PN: 14-0038-P00AA1007
DIO3 Outlet pressure: 14 - 36 psi (1.0 ~ 2.5 bar)
O2 Inlet pressure: 65 - 110 psi (4.5 ~ 7.6 bar)
CO2 Inlet pressure: 73 - 36 psi (5.0 ~ 7.6 bar)
UPW Inlet pressure: 48 - 73 psi (3.3 ~ 5.0 bar)
CDA Inlet pressure: 75 - 119 psi (5.2 ~ 8.2 bar)
Main cooling water pressure: 29 psi (2.0 bar)
Max cool water press: 73 psi (5.0 bar)
Missing parts:
Spin base: Material, Spin motor, Revolution, Acceleration, Revolution accuracy
Chuck: Chuck drive, Material, Wafer detection
Main H/D
Spin base (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC board assy (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC flow meter switch (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
CR ROBOT
INDEX ROBOT Servo drive
MPC - 2 (Chemical tray)
Power supply: Phase 3, 208V, 39kVA, 108A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
UPS Power supply: Phase 3, 208V, 20VA, 56A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
Power supply (4 - wire): 3/PE-200~230V ±10% 14A 50/60Hz
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON/SCREEN SU-3200は、半導体製造業界で製造工程で基板の洗浄や乾燥に使用されるウェットステーションです。この洗練された装置は、次の製造ステップに進む前に基板の清潔さと品質を確保する上で重要な役割を果たします。DNS SU-3200は、最新の半導体製造の厳しい要件を満たすために、精度と一貫性のある基板を処理するように設計されています。SCREEN SU 3200の中心には、基板から汚れや残留物を除去するために不可欠な高度な洗浄・乾燥機能があります。ウェットステーションには、さまざまな化学溶液と脱イオン水を使用した一連の洗浄および洗浄サイクルに基板がさらされる複数の処理チャンバーがあります。これらの洗浄プロセスは、高い清浄度を達成し、最終的な半導体デバイスの欠陥や信頼性の問題を防止するために慎重に制御されています。DNS SU 3200の主な特徴の1つは、半導体製造で一般的に使用されるさまざまな基板サイズとタイプに対応する柔軟性と拡張性です。小型ウエハから大型パネルまで様々な基板サイズに対応し、半導体製造会社の生産工程の最適化と効率化を実現しています。さらに、SU 3200は、特定の洗浄レシピとプロセスパラメータでカスタマイズして、さまざまな半導体アプリケーションの独自の要件に対応できます。DNS/DAINIPPON/SCREEN SU 3200は、高いスループット性能と効率的な洗浄プロセスを特徴としています。この装置は、1つのバッチ処理で多数の基板を処理するように設計されているため、生産性が最大化され、製造サイクル時間が短縮されます。SCREEN SU-3200の洗浄および乾燥モジュールは、一貫した再現性のある結果を提供するように設計されており、製造プロセス全体で基板の品質と信頼性を確保します。DAINIPPON SU 3200は、ユーザーフレンドリーなインターフェースと直感的な制御システムを備えており、オペレータは簡単に処理レシピを設定し、機器の状態を監視し、クリーニング性能データを分析することができます。また、洗浄プロセスの安全性と信頼性を確保するために、高度なセンサーとモニタリングシステムが装備されています。これにより、半導体メーカーは生産設備において高いプロセス制御と品質基準を維持することができます。結論として、ダイニッポンSU-3200ウェットステーションは、半導体製造における基板の洗浄と乾燥のための洗練された信頼性の高いソリューションです。高度な洗浄機能、高いスループット性能、柔軟な加工オプションを備えたSU-3200は、製造プロセスにおいて高いレベルの清浄度と品質を実現するために、半導体メーカーにとって不可欠なツールです。ユーザーフレンドリーなインターフェイスと高度な制御機能により、半導体産業における製造効率と製品の信頼性を最適化するための貴重な財産です。
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