中古 AKRION HL 2000 #9157799 を販売中

AKRION HL 2000は、半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイス製造用の完全なウェットエッチング装置を提供するように設計されたウェットステーションです。それはエッチング、クリーニングおよびHF酸の取り外しプロセスのための多目的なプラットホームです。このシステムは、最大4つのウエハを処理することができ、処理時間を圧縮し、化学的使用量を削減するように設計されています。HL 2000は、複数のカセットオプションを持つ単一のチャンバーで構成されています。ウェーハの全自動ローディングおよびアンロード処理を特徴とし、チャンバーは化学蒸気などの汚染物質がユニットに侵入するのを防ぐように設計されています。オプションのプロセスコントローラにより、遠隔操作と監視が可能です。機械は2つのガス配分システムが装備されているので、ユーザーは独自のプロセスレシピを作成できます。真空ポンプツールは、最大5インチの水銀真空および温度制御を提供します。スクラバーはオペレータを危険な排気から保護します。AKRION HL 2000には、バックフィルやプロセスチャンバーのフロントフィルなどのウェットプロセスコントロールも含まれています。これらのコントロールは、エッチングやクリーニングに使用されるHF酸の量を調節するのに役立ちます。このアセットには、より効率的で一貫したプロセス結果を得るための高度な統合ケミカルフィードモデルも搭載されています。統合されたコントローラは、高度なプロセス制御のための温度、流量、時間などの必要なパラメータを追跡します。また、In-Chamberイメージングとパーティクル検出による高度な統合プロセスモニタリング機能も備えています。オプションのケミカルリサイクルモジュールは、よりクリーンなプロセスを提供しながら、化学および廃水のコストを削減するのに役立ちます。全体的に、HL 2000は、安全で統合された信頼性の高いウェットエッチングシステムを提供するように設計されています。幅広い半導体デバイスやマイクロエレクトロニクスデバイスに迅速かつ効率的な処理で高品質な結果を提供することができます。