中古 ACM Ultra C #293758647 を販売中

製造業者
ACM
モデル
Ultra C
ID: 293758647
ウェーハサイズ: 8"-12"
Wet cleaning system, 8"-12" (4) Loading ports EFEM Aligner and robot Chuck Type: Mechanical Clean chemical: DIO3, SC1, SC2, dHF, F water, IPA (2) Process robots (12) Process chambers SAPS Wafer cleaning system SAPS Mega Sonic: 0-1.5 w/cm² Uniform supersonic power density: WIWNU <2% Particle performance: ≤10 at 30 nm Metal pollution: ≤ 1 x 10^10 atoms/cm² Throughput: 225 WPH (90s recipe) Pre-isolation metal deposition (8) Chambers Nodes shrink: 65 nm - 22 nm Model / Chamber number / Chemicals / Robot number / Throughput SAPS II / 8 (3/2/3) / 3+DI+IPA / 1 / 300 WPH SAPS III / 8 (4/4) / 2+DI / 2 / 350 WPH SAPS V / 12 (3/3/3/3) / 3+DI+IPA / 3 / 600 WPH Drying method: N2 Rotary drying Liquid IPA.
ACM Ultra Cは、先進技術と機能を統合した最先端のウェットステーションで、半導体製造プロセスで効率的で正確かつ信頼性の高いパフォーマンスを提供します。このウェットステーションは、高い生産性と歩留まりに対する業界の需要の高まりに対応しながら、優れた品質とプロセスパラメータの制御を保証するように設計されています。ウルトラCウェットステーションは、特定のプロセス要件を満たすようにカスタマイズし、半導体製造環境の変化するニーズに適応できる多目的で柔軟なツールです。ACM ウルトラCウェットステーションは、その性能と能力を高める革新的な技術の範囲を備えています。このウェットステーションの主な特徴の1つは、ウェットプロセス工程の正確な制御と監視を可能にする高度なオートメーション装置です。このオートメーションシステムは、人為的ミスとプロセスの変動を最小限に抑えることにより、一貫した信頼性の高い結果を保証します。また、ウェットステーションの遠隔監視と制御も可能で、オペレータはプロセスパラメータを最適化し、リアルタイムで問題のトラブルシューティングを行うことができます。ウルトラCウェットステーションのもう一つの重要な特徴は、その高度なケミカルデリバリーユニットです。この機械は高精度および再現性の薬品そしてプロセス解決を正確に分配するように設計されています。化学物質の配送を正確に制御することで、湿式工程での均一性を確保し、結果のばらつきを最小限に抑え、プロセスの信頼性と歩留まりを向上させます。ケミカルデリバリーツールには、高度なセンサーとモニタリング技術が搭載されており、ケミカルリークや不適切な分配などの問題を検出および防止し、プロセスの安全性と完全性を確保します。ACM Ultra Cウェットステーションには、高度な自動化および化学配送システムに加えて、さまざまなプロセス制御および監視技術が搭載されています。温度、圧力、流量、化学濃度などのプロセスパラメータのリアルタイム監視が含まれます。ウェットステーションは、これらのセンサからデータを収集して分析し、プロセス条件を最適化し、所望の仕様からの逸脱を検出することができます。このレベルの制御と監視により、オペレータは情報に基づいた意思決定と調整を行い、プロセスの安定性と一貫性を確保することができます。ウルトラCウェットステーションは、操作が簡単で使いやすいように設計されています。直感的なインターフェイスにより、オペレータはプロセスパラメータの設定と監視、リアルタイムデータの表示、問題のトラブルシューティングを効率的に行うことができます。ウェットステーションには、オペレータと環境を化学プロセスに関連する潜在的な危険から保護するための安全機能が内蔵されています。これらの安全機能には、緊急停止ボタン、漏れ検出センサー、および重大な障害が発生した場合の自動シャットダウンプロトコルが含まれます。全体として、ACM Ultra Cウェットステーションは、半導体製造プロセスにおいて高性能、信頼性、柔軟性を提供する最先端のツールです。その高度な技術と機能により、湿式プロセスの正確な制御、監視、自動化が可能になり、半導体製造の生産性、歩留まり、品質が向上します。ユーザーフレンドリーなインターフェースと堅牢な安全機能を備えたUltra Cウェットステーションは、ウェット処理オペレーションを最適化し、競争力のある業界で前進させたい半導体メーカーにとって理想的なソリューションです。
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