中古 RUDOLPH MP 300 #9257356 を販売中

RUDOLPH MP 300ウェーハ試験および計測装置は、今日の高度な半導体ウェーハの試験および計測のための、自動化された高性能で多目的ソリューションです。このシステムは、非接触光学レンジ、表面地形、電気プロービング、欠陥検査など、幅広い機能を提供します。RUDOLPH MP300は、生産ウェハテストにおける3D顕微鏡イメージング用の高精度光干渉計です。この干渉計は、バンプ、トレンチ、およびその他の深い特徴を含むウェーハの特徴の高さと深さを測定するために使用されるいくつかのレーザーで構成されています。干渉計の測定精度は10nmで、倍率範囲は5x〜20,000xです。MP-300は、高解像度CCDカメラをはじめ、精密な2Dイメージングや欠陥検査用の各種光学ハードウェアを搭載しています。このユニットはまた、非接触測定技術を通じて高速電気的プロービング機能をユーザーに提供します。1msの精度でトレース抵抗を測定し、2msの精度でICの前方/逆電流を記録することができます。MP300はまた、表面形状測定、寸法解析、膜厚測定など、幅広い計測ソリューションを提供しています。イメージングには高解像度CCDカメラ、寸法測定にはナノメートル分解能レーザーを使用しています。この機械は信頼性が高く、0。7nmの精度で高精度のフルフィールドトポグラフィ測定を行います。MP 300はまた、ツールの制御と分析のための直感的なユーザーインターフェイスをユーザーに提供します。ユーザーはさまざまな設定、テストモード、測定技術から選択でき、アセットはユーザーの要件に応じて設定を調整します。このユーザーフレンドリーなモデルにより、テストと計測作業を迅速かつ効率的に行うことができます。RUDOLPH MP-300 Wafer Testing and Metrology Equipmentは、今日の洗練された半導体ウェーハの試験および計測のための高度で信頼性の高いソリューションです。RUDOLPH MP 300システムは、幅広い機能と精度を備えており、生産における迅速かつ効率的なウェーハテストと計測に最適です。