中古 RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #293665001 を販売中

RUDOLPH MetaPulse 200X-Cuは、商用半導体デバイスの製造に適した高精度、非破壊的なウェーハ試験および計測機器です。広い視野を持ち、最大16ビットのダイナミックレンジを備えた高解像度イメージセンサを備え、広いウェーハサイズの精度に優れています。また、シート抵抗や接触抵抗などのモビリティなどのデバイス性能を特徴付ける電気パラメータを測定することができます。このシステムには、1000mmのワイドイメージスクロール、2つの光源、精密な線形ステージ制御、および複雑な光学ユニットが含まれています。耐久性と温度安定性に優れた最高品質のスチール製で、さまざまな測定環境でも信頼性の高いデータ収集が可能です。RUDOLPH METAPULSE 200XCUの高精度光イメージング機能は、デバイスレイアウトに基づいて電気特性評価モデルを作成するために設計されています。半導体デバイス構造におけるマイクロボイドの特性評価、酸化物厚さの計算、デバイスの異方性影響の評価など、非破壊微細検査が可能です。イメージング品質により、異なるデバイス構造を高解像度で検査し、プロセス制御および歩留まり改善のための分析を行うことができます。METAPULSE 200X CUのデータ収集機能は、ウェハマップ、コンデンサ、コンデンサ、コンタクト/ビア、フラット予測/トレンドなどのパラメータを測定するように設定できます。これは、長時間連続した測定セッション中に再現性とデータ精度を維持することを可能にする、統合されたインデックスマシンで設計されています。さらに、METAPULSE 200 X CUは、周波数チューニングでデータを収集し、0Hzから10MHzまでのさまざまなAC/DCバイアス励起のためのデバイスプロファイルを特徴付けることができます。データ精度のために、このツールはまた、接触抵抗などの寄生効果をキャプチャするために、多くの電気プローブとの同時測定をサポートしています。また、コンタクトバウンスによる測定ノイズとデータエラーを低減し、セトリング時間を短縮するように設計されています。RUDOLPH METAPULSE 200 X CUも簡単にアップグレード可能で、効率的な生産追跡のための高いデータスループットを提供します。直感的なユーザーインターフェイスにより、複雑な測定設定や自動測定を簡単に設定でき、収集したデータを簡単に可視化して分析できます。METAPULSE 200XCUは、高精度でデータ評価機能を備えており、商用半導体デバイスの生産に最適です。